[发明专利]一种高温光栅的制作及转移方法

权利要求书

1.一种高温光栅的制作及转移方法，其特征在于该方法包括如下步骤：

1）在硬基体上均匀涂覆一层正胶光刻胶，将硬基体放入全息制栅光路中进行曝光，然后进行显影形成全息光栅；

2）通过电铸技术直接在硬基体全息光栅上电铸，脱膜制得电铸全息光栅模板；

3）取另一硬基体，在该硬基体上涂覆纳米热压印光刻胶，然后放入热压印平台上，再将电铸全息光栅模板放在涂有纳米热压印光刻胶的硬基体上，设定压印温度范围110℃～130℃，压力范围35MPa～45MPa，然后进行热压印,在硬基体表面得到全息光栅；

4）将表面含有全息光栅的硬基体放入真空蒸镀机内进行蒸镀，在光栅表面形成高温光栅金属膜；

5）试样表面用砂纸进行粗抛，将高温粘结剂涂在试样表面，然后将高温光栅金属膜粘接在试样表面，放入高温炉内高温固化，升温速率2℃/分～3℃/分，升温到170℃恒温时间为3～4小时，然后自然冷却；所述的高温粘结剂采用聚硅氮烷和碳化硼粉的混合物；

6）将硬基体从试件上剥离，高温光栅金属膜直接转移到试样表面。

2.按照权利要求1所述的一种高温光栅的制作及转移方法，其特征在于：所述的聚硅氮烷和碳化硼粉的混合物的质量比为1:2。

3.按照权利要求1所述的一种高温光栅的制作及转移方法，其特征在于：所述的纳米热压印光刻胶为SU-8光刻胶。

4.按照权利要求1所述的一种高温光栅的制作及转移方法，其特征在于：所述的硬基体为玻璃或硅片。

5.按照权利要求1～4任一权利要求所述的一种高温光栅的制作及转移方法，其特征在于：所述的高温光栅金属膜为铬膜。