[发明专利]吸电子基团修饰的三苯胺线型材料及其制备方法和用途

权利要求书

1.一种吸电子基团修饰的三苯胺线型材料，其特征在于，以三苯胺为核心，在两端引入吸电子基团修饰，其结构通式如式（I）所示：

式（Ⅰ）中，X结构式为以下（Ⅱ）、（Ⅲ）或（Ⅳ）：

其中，R₁、R₂独立地选自C1-C12烷基中的一种，“*”表示连接位置。

2.如权利要求1所述的吸电子基团修饰的三苯胺线型材料的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

（1）惰性气氛下，将3-己基噻吩溶于有机溶剂A中，调节体系温度至-70℃～-80℃后滴加正丁基锂，保持1～1.5小时，再加入三丁基氯化锡，反应12～24小时，经水洗、萃取、干燥，旋蒸出溶剂得到粗产物；

（2）将4,7-二溴-2,1,3-苯并噻二唑溶于有机溶剂B中，然后加入步骤（1）所得产物及四（三苯基膦）钯，加热至110℃～120℃，反应12～24小时，经水洗、萃取、干燥，得固体；

（3）将步骤（2）所得产物溶于有机溶剂C中，冰浴下滴加N,N-二甲基甲酰胺与三氯氧磷，升温至90℃～100℃反应12～24小时后倒入冰水中，经萃取，干燥，柱层析得固体；

（4）将步骤（3）所得产物加入到有机溶剂D中，室温下加入N-溴代丁二酰亚胺，反应12～24小时后水洗、萃取、干燥，柱层析得固体；

（5）惰性气氛下，将步骤（4）所得产物溶于有机溶剂E中，然后加入化合物（1）、碳酸钾、四（三苯基膦）钯、水，加热至85℃～110℃，反应48～72小时后倒入水中、萃取、干燥、柱层析得到固体；

所述化合物（1）的结构式如下：

（6）惰性气氛下，将步骤（5）所得产物溶于有机溶剂F及助剂中，加入带有吸电子基团的物质，一定温度下发生反应，然后经水洗、萃取、干燥、柱层析，得到吸电子基团修饰的三苯胺线型材料；

所述步骤（5）所得产物的毫摩尔数与有机溶剂的体积数之比为1mmol：5ml～10ml；步骤（5）所得产物与带有吸电子基团的物质的摩尔比为1:10～20。

3.如权利要求2所述的吸电子基团修饰的三苯胺线型材料的制备方法，其特征在于，所述的步骤（1）中，3-己基噻吩的毫摩尔数与有机溶剂A的体积数之比为1mmol：5ml～10ml；三种反应物的用量之比，即3-己基噻吩、正丁基锂、三丁基氯化锡的摩尔比为1:0.9～1:0.9～1。

4.如权利要求2所述的吸电子基团修饰的三苯胺线型材料的制备方法，其特征在于，所述的步骤（2）中，4,7-二溴-2,1,3-苯并噻二唑的毫摩尔数与有机溶剂B的体积数之比为1mmol：5ml～10ml；三种反应物的用量之比，即4,7-二溴-2,1,3-苯并噻二唑、步骤（1）所得产物、四（三苯基膦）钯的摩尔比为1:2.5～3:0.1～0.5。

5.如权利要求2所述的吸电子基团修饰的三苯胺线型材料的制备方法，其特征在于，所述的步骤（3）中，步骤（2）所得产物的毫摩尔数与有机溶剂C的体积数之比为1mmol：5ml～10ml；三种反应物的用量之比，即步骤（2）所得产物、N,N-二甲基甲酰胺、三氯氧磷的摩尔比为1:0.9～1:0.9～1。

6.如权利要求2所述的吸电子基团修饰的三苯胺线型材料的制备方法，其特征在于，所述的步骤（4）中，步骤（3）所得产物与N-溴代丁二酰亚胺的摩尔比为1:0.9～1。

7.如权利要求2所述的吸电子基团修饰的三苯胺线型材料的制备方法，其特征在于，所述的步骤（5）中，步骤（4）所得产物的毫摩尔数与有机溶剂E的体积数之比为1mmol：5ml～10ml；加入水的体积占甲苯体积的1/4～1/2；步骤（4）所得产物、化合物1、碳酸钾、四（三苯基膦）钯的摩尔比为4:1:30:0.1～0.5。

8.如权利要求2所述的吸电子基团修饰的三苯胺线型材料的制备方法，其特征在于，步骤（6）中，

所述的有机溶剂F为三氯甲烷；

所述的助剂为哌啶；

所述的带有吸电子基团的物质为3-烷基绕丹宁；

发生反应的温度为90℃～100℃，反应时间为48～72小时。