[发明专利]对光学元件表面污染物进行清理的装置和方法

权利要求书

1.一种对光学原件表面污染物进行清理的装置，其特征在于：该装置包括真空腔体（5）、设于真空腔体（5）内部的闪光灯光源（1）、气体吹扫头（3）、光学元件（4）、设于真空腔体（5）外部的闪光灯电源（2）、真空机组（6）；

闪光灯电源（2）通过穿过真空腔体（5）的电极引线（7）与闪光灯光源（1）相连并为其提供工作电压；

闪光灯光源（1）放在需要进行污染物清理的光学元件（4）的内部表面附近，使其工作时发出的光线（10）作用到光学元件（4）需要清理的表面；

闪光灯光源（1）工作时，气体吹扫头（3）用于喷射气体（8），并该喷射气体（8）作用在光学元件（4）和需要清理的真空腔体（5）内表面上，在闪光灯光源（1）作用下光学元件（4）表面和真空腔体（5）内表面释放的污染物（9）发生反应或被气流带走。

2.根据权利要求1所述的对光学原件表面污染物进行清理的装置，其特征在于：气体吹扫头（3）喷射的气体（8）是无机气体或有机易挥发气体或上述气体的混合物。

3.根据权利要求1所述的对光学原件表面污染物进行清理的装置，其特征在于：无机气体是惰性气体、氢气、氮气，有机易挥发气体是酒精、丙酮。

4.根据权利要求1所述的对光学原件表面污染物进行清理的装置，其特征在于：闪光灯光源（1）为高功率密度光源，发出的光作用在光学元件（4）表面或真空腔体（5）内表面时，使沉积在这些表面上的污染物（9）从表面释放出来，并使部分释放出来的污染物成分发生电离，或与吹扫气体（8）发生反应产生形成新的气体成分被真空机组（6）抽出真空腔体（5）。

5.根据权利要求4所述的对光学原件表面污染物进行清理的装置，其特征在于：所述高功率密度光源包括脉冲氙灯、卤素灯、固体激光光源。

6.一种对光学原件表面污染物进行清理的方法，其特征在于：该方法包括如下步骤：

闪光灯光源（1）放在需要进行污染物清理的光学元件（4）以及真空腔体（5）的内部表面附近，使其工作时发出的光作用到需要清理的表面；

采用真空机组（6）对真空腔体（5）抽真空后，开启闪光灯电源（2）使闪光灯光源（1）工作，并同时用气体吹扫头（3）对需要清理的表面吹出气体（8）；

闪光灯光源（1）发出的光作用在光学元件（4）表面或真空腔体（5）内表面时，使沉积在这些表面上的污染物（9）从表面释放出来，并使部分释放出来的污染物成分发生电离，或与吹扫气体（8）发生反应产生形成新的气体成分被真空机组（6）抽出真空腔体（5）。

7.根据权利要求6所述的对光学原件表面污染物进行清理的方法，其特征在于：采用真空机组（6）对真空腔体（5）抽真空并同时对真空腔体（5）内部采用吹扫头（3）对真空腔体（5）内部连续吹气，然后开启闪光灯电源（2）使闪光灯光源（1）工作，释放出的污染物（9）与吹扫气体（8）一起被真空机组（6）抽出真空腔体（5）。

8.根据权利要求6所述的对光学原件表面污染物进行清理的方法，其特征在于：当吹扫气体（3）是氢气或有机气体时，在真空机组（6）排气口进行防爆处理。