[发明专利]一种卤化物熔盐电沉积制备Ni-Ti表面钽镀层的方法

权利要求书

1.一种卤化物熔盐电沉积制备Ni-Ti表面钽镀层的方法，其特征在于包括以下步骤：

（1）配制电解质：在氟化锂LiF、氯化锂LiCl、氟化钠NaF、氯化钠NaCl、氟化钾KF或氯化钾KCl中的任意至少两种化合物构成的熔盐中，添加氟化钽TaF₅、氯化钽TaCl₅或氧化钽T₂O₅，组成电解质；

（2）电沉积制备钽涂层：以石墨为阳极，待镀Ni-Ti合金为阴极，在上述电解质熔盐的初晶温度之上5~30℃进行电沉积，电流密度0.1~0.5A/cm²，电解1~5h，在阴极表面得到致密的钽涂层。

2.根据权利要求1所述的一种卤化物熔盐电沉积制备Ni-Ti表面钽镀层的方法，其特征在于所述的电解质熔盐组成按质量百分比为40~60% NaCl，30~50% KCl，0~10% LiCl和2~10% TaCl₅。

3.根据权利要求1所述的一种卤化物熔盐电沉积制备Ni-Ti表面钽镀层的方法，其特征在于所述的电解质熔盐组成按质量百分比为40~60% NaF，30~40%KF，8~20% LiCl和2~10% TaF₅。

4.根据权利要求1所述的一种卤化物熔盐电沉积制备Ni-Ti表面钽镀层的方法，其特征在于所述的电解质熔盐组成按质量百分比为40~60% NaF，30~50% LiF，5~15%KF和1~5% Ta₂O₅。