[发明专利]有机发光器件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201280069848.9 申请日: 2012-08-02
公开(公告)号: CN104126332A 公开(公告)日: 2014-10-29
发明(设计)人: 西村征起;松岛英晃;高繁梦二 申请(专利权)人: 松下电器产业株式会社
主分类号: H05B33/22 分类号: H05B33/22;H01L51/50;H05B33/10;H05B33/12
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 徐健;段承恩
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 有机 发光 器件 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种有机发光器件,具有:

基底膜,其设置在基板上;

隔壁,其设置成覆盖所述基底膜表面的一部分、且围绕所述基底膜表面的其余部分;以及

有机膜,其构成为包含有机材料,形成在通过所述隔壁的围绕而构成的凹部内,与所述基底膜表面及所述隔壁表面各自的一部分接触,

所述基底膜表面的一部分形成为与所述基底膜的除此以外的表面相比向上方隆起,所述隆起部包括顶面部和向其周围扩展的斜面部,

所述隔壁至少覆盖所述基底膜表面中的所述隆起部的顶面部和所述斜面部的一部分,所述隔壁的内缘在所述隆起部的斜面部或所述隆起部以外的平坦部分的部位与所述基底膜表面接触。

2.根据权利要求1所述的有机发光器件,

所述有机膜通过使涂敷膜干燥来形成,所述涂敷膜通过涂敷包含所述有机材料的墨而形成,

在将所述基底膜表面的所述平坦部分上的所述有机膜的平均膜厚设为a2,将以所述基底膜表面的所述平坦部分为基准的、所述基底膜表面和所述隔壁的内缘接触的部位的高度设为b时,满足(b/a2)≤15的关系,所述a2和所述b的单位为nm。

3.根据权利要求1所述的有机发光器件,

所述有机膜通过使涂敷膜干燥来形成,所述涂敷膜通过涂敷包含所述有机材料的墨而形成,

所述涂敷膜覆盖所述基底膜表面的所述平坦部分的整体、所述隆起部的斜面部中不被所述隔壁覆盖的部分、以及所述隔壁的一部分,并且,所述涂敷膜的膜厚a1形成为比以所述基底膜表面的所述平坦部分为基准的、所述隔壁的内缘的高度b厚,所述a1和所述b的单位为nm,

在将所述基底膜表面的所述平坦部分上的所述有机膜的平均膜厚设为a2时,满足(b/a2)≤15的关系,所述a2的单位为nm。

4.根据权利要求1所述的有机发光器件,

以所述基底膜表面的所述平坦部分为基准的、所述隔壁的内缘高度为150nm以下。

5.根据权利要求1所述的有机发光器件,

所述基底膜包括开设有接触孔部的层间绝缘膜、和设置在包括所述接触孔部的内壁面的所述层间绝缘膜的表面的电极,

所述有机膜通过使涂敷膜干燥来形成,所述涂敷膜通过对所述电极表面涂敷包含所述有机材料的墨而形成,

所述层间绝缘膜的开设有所述接触孔部的部分及其周围表面与该部分以外的表面相比向上方隆起,

所述电极沿着所述层间绝缘膜的表面而形成,所述电极的所述层间绝缘膜的隆起部上的部分的表面与该部分以外的表面相比向上方隆起,

所述电极表面是所述基底膜表面。

6.一种有机发光器件的制造方法,包括:

在基板上形成基底膜的工序;

在所述基底膜上形成隔壁以覆盖所述基底膜表面的一部分、且围绕所述基底膜表面的其余部分的工序;

对通过所述隔壁的围绕而构成的凹部内涂敷包含有机材料的墨而形成涂敷膜的工序;以及

使所述涂敷膜干燥而形成与所述基底膜表面及所述隔壁表面各自的一部分接触的有机膜的工序,

在形成所述基底膜的工序中,形成表面的一部分与其以外的表面相比向上方隆起、该隆起部包括顶面部和向其周围扩展的斜面部的基底膜,

在形成所述隔壁的工序中,形成所述隔壁以使得至少覆盖所述基底膜表面中的所述隆起部的顶面部和所述斜面部的一部分,所述隔壁的内缘在所述隆起部的斜面部或所述隆起部以外的平坦部分的部位与所述基底膜表面接触。

7.一种有机发光器件的制造方法,包括:

在基板上形成基底膜的工序;

在所述基底膜上形成隔壁以覆盖所述基底膜表面的一部分、且围绕所述基底膜表面的其余部分的工序;

对通过所述隔壁的围绕而构成的凹部内涂敷包含有机材料的墨而形成涂敷膜的工序;以及

使所述涂敷膜干燥而形成与所述基底膜表面及所述隔壁表面各自的一部分接触的有机膜的工序,

在形成所述基底膜的工序中,形成表面的一部分与其以外的表面相比向上方隆起、该隆起部包括顶面部和向其周围扩展的斜面部的基底膜,

在形成所述隔壁的工序中,形成所述隔壁以使得至少覆盖所述基底膜表面中的所述隆起部的顶面部和所述斜面部的一部分,所述隔壁的内缘在所述隆起部的斜面部或所述隆起部以外的平坦部分的部位与所述基底膜表面接触,

在形成所述涂敷膜的工序中,形成所述涂敷膜以使得覆盖所述基底膜表面的所述平坦部分的整体、所述隆起部的所述斜面部中不被所述隔壁覆盖的部分、以及所述隔壁的一部分,且所述涂敷膜的膜厚a1比以所述基底膜表面的所述平坦部分为基准的、所述隔壁的内缘的高度b厚,所述a1和所述b的单位为nm,

在形成所述有机膜的工序中,形成所述有机膜以使得:在将所述基底膜表面的所述平坦部分上的所述有机膜的平均膜厚设为a2时,所述有机膜的平均膜厚a2满足a1>a2≥(b/15)的关系,所述a2的单位为nm。

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