[发明专利]调节组件、包括该调节组件的负载组件、包括该负载组件的按压系统和适配负载组件的方法

权利要求书

1.一种调节组件，包括：平台，其可移动地联接至基底；和调节机构，其包括用于相对于所述基底侧向调节所述平台的位置的偏转构件；所述调节组件被设置为响应于所述偏转构件被推动以沿第二轴线方向移动使得所述平台能够被推动以沿第一轴线的方向侧向移动，所述第二轴线与所述第一方向基本不平行。

2.根据权利要求1所述的调节组件，其中所述第一和第二轴线是正交的。

3.根据权利要求1或2所述的调节组件，其中每一个偏转构件包括锥形的楔部分，所述平台和所述基底配合地设置为将每一个楔部分容纳在所述平台和所述基底之间使得一个所述偏转构件的沿第二轴线方向的移动会推动所述平台相对于所述基底沿所述第一轴线移动，其它偏转构件沿所述第二轴线的相同方向的同时移动允许所述基底沿所述方向移动。

4.根据上述权利要求中的任一项所述的调节组件，所述组件包括一对横向调节构件，其被设置为响应于所述横向调节构件沿着所述第二轴线被推动，能够相对于所述基底沿所述第二轴线移动所述平台。

5.根据权利要求4所述的调节组件，其中当所述横向调节构件响应于所述偏转构件的移动而沿所述第一轴线移动时，所述横向调节构件设置为用作所述平台的引导机构。

6.根据权利要求4或5所述的调节组件，其中当所述偏转构件响应于所述横向调节构件的移动而沿着所述第二轴线移动时，所述偏转构件设置为用作所述平台的引导机构。

7.根据权利要求4-6中任一项所述的调节组件，其中所述平台包括第一对相对接触表面，每一个第一对相对接触表面抵接各自的偏转构件；和第二对相对接触表面，每一个第二对相对接触表面抵接各自的横向调节构件；所述第一对接触表面和所述第二对接触表面彼此正交。

8.根据上述权利要求中任一项所述调节组件，其中所述平台包括一对平台接触表面，每一个平台接触表面抵接各自的偏转构件，并且所述基底包括一对基底接触表面；每一个偏转构件容纳在各自的平台和基底接触表面之间；所述平台和基底接触表面设置为使得所述偏转构件相对于由所述第一和第二轴线限定的侧平面倾斜。

9.根据权利要求8所述的调节组件，其中所述偏转构件相对于所述侧平面以最小50度和最大65度的角度倾斜。

10.一种用于按压装置的负载组件，其包括根据上述权利要求中任一项所述的调节组件，所述基底包括液压汽缸的撞击装置和联接至所述平台的砧板构件。

11.根据权利要求10所述的负载组件，其中所述砧板构件通过调节组件可移动地联接至所述平台，所述调节组件被设置为允许所述砧板构件相对于所述平台旋转运动。

12.一种用于生成超高压的按压装置，所述装置包括根据权利要求10或11所述的至少两个负载组件，每个负载组件被附接至按压框架并且设置为能够配合地生成施加在反应体积上的负载。

13.一种将负载组件适配于按压系统的方法，所述负载组件包括砧板组件、液压系统和支承块；当组装使用时所述支承块被设置在所述砧板组件和所述液压系统之间；提供设置为一端与所述液压系统联接并且相对端与所述砧板组件联接的调节机构；利用所述调节机构替换所述支承块。