[发明专利]接触和分离塔以及塔盘

权利要求书

1.一种接触和分离塔(1)，其包括塔壁(2)，所述塔壁包围一个或更多个叠置的接触和分离室，其中，每个接触和分离室包括：

-塔盘(4)，其具有多个气流孔(6)，所述气流孔通向位于塔盘(4)上侧上的一个或更多个接触和分离单元(7)，其中，每个接触和分离单元(7)包括具有液体入口(12)的上游接触区(8，9)、以及一个或更多个下游分离区(10)，所述下游分离区配置有旋流器(13)和具有气体出口(14)的顶端；

-降液部(16)，其界定液体排放部；以及

-液体供应部(17)，其将液体输送到接触和分离室中，

其中，接触区(8，9)的截面面积大于接触和分离单元的一个或更多个上述分离区(10)。

2.根据权利要求1的接触和分离塔，其中，接触区(8，9)的截面面积至少比单个分离区(10)的截面面积大50％。

3.根据前述任一权利要求的接触和分离塔，其中，接触区(8，9)的截面为正方形或矩形。

4.根据前述任一权利要求的接触和分离塔，其中，接触和分离单元(7)包括单个接触区(8，9)和多个分离区(10)。

5.根据前述任一权利要求的接触和分离塔，其中，气体出口(14)由液体导流器(15)界定边界。

6.根据前述任一权利要求的接触和分离塔，其中，液体导流器(15)包括径向截面为U形的回流裙部，该回流裙部的开口侧布置在分离区(10)的顶部边缘上方。

7.根据前述任一权利要求的接触和分离塔，其中，接触区(8，9)内至少局部填充有填充材料。

8.根据前述任一权利要求的接触和分离塔，其中，相邻接触和分离室中的降液部(16)相互偏置，其中处于上部的接触和分离室的液体排放部构成处于下部的接触和分离室的液体供应部。

9.根据前述任一权利要求的接触和分离塔，其中，在塔盘(4)的边缘处，降液部(16)包括挡流结构，其中，所述挡流结构和塔壁(2)界定液体排放部。

10.一种接触和分离塔盘，其用于根据前述任一权利要求的接触和分离塔中，其中，该接触和分离塔盘(4)包括底板(5)，底板具有多个气流孔(6)，所述气流孔通向位于塔盘(4)上侧上的一个或更多个接触和分离单元(7)，其中，每个接触和分离单元(7)包括具有液体入口(12)的上游接触区(8，9)、以及一个或更多个下游分离区(10)，所述下游分离区配置有旋流器(13)和具有气体出口(14)的顶端，所述气体出口由液体导流器(15)界定边界；其中，接触区(8，9)的截面面积大于分离区(10)。

11.根据权利要求10的接触和分离塔盘，其中，挡流结构位于塔盘(4)的边缘处，该挡流结构和塔壁(2)界定液体排放部。

12.根据权利要求10或11的接触和分离塔盘，其中，接触和分离单元(7)包括盒形接触区(8，9)，所述盒形接触区通向一个或更多个管状分离区(10)。

13.利用液体处理气体的工艺，该工艺包括：在接触和分离塔(1)的处于下部的接触和分离室(3)中，在气体入口(6)处将气体引入，在液体入口(12)处将液体引入，该接触和分离塔是根据权利要求1至9中的任一权利要求的接触和分离塔。

14.根据权利要求13的工艺，其中，气体在接触区(8，9)中的流动速度小于在分离区(10)中的流动速度。

15.根据权利要求14的工艺，其中，所述气体是天然气。