[发明专利]具有保护层的全息介质

说明书

技术领域

本发明涉及包含保护层和与该保护层相连的光聚合物膜的全息介质，所述光聚合物膜包含聚氨酯-基质聚合物、丙烯酸酯-书写单体和光引发剂。本发明另外的主题是根据本发明的全息介质在制造全息图中的用途以及制造根据本发明的全息介质的方法。

背景技术

记录体积全息图的全息介质描述在专利申请EP 2 218 743,EP 2 372 454,WO 2011/054791和WO 2011/067057中。现有技术的介质包含略带粘性的光聚合物膜。因此，为避免黏附灰尘和其它干扰性颗粒，需要通过用不透明的层压膜的覆盖来保护该光聚合物膜。此外，在将全息图复制到该光聚合物膜中时，所述胶粘性导致出现问题。因此，在此必须使该光聚合物膜与原始全息图(通常基于卤化银乳剂)紧密接触。为此，将所述膜层压在原始全息图上的玻璃载体上或者直接层压在由卤化银乳剂制成的原始全息图上。在带粘性的光聚合物膜的情况中，部分膜会黏附残留在玻璃载体上，这造成清洁费用提高并因此会对连续生产过程起不利作用。在最糟糕的情况中，该光聚合物膜牢固粘结在原始全息图本身上，以至于不能使光聚合物膜和原始全息图没有损坏地分离。此外，在一些复制方法中必须使用折射率匹配液体，以补偿玻璃和光聚合物膜之间的折射率差异。在现有技术已知介质的情况中，由此会出现不希望的化学变化(洗掉成像成分，溶胀等)，这会不利影响所得到的全息图的品质。此外，在许多情况中应将曝光后得到的全息图与基底相粘结。为此，将胶粘剂或胶粘带的粘结侧直接施加在光聚合物膜上。但是，随后在所述光聚合物膜和胶粘剂之间会发生导致全息图中的颜色改变的迁徙过程。在专利申请EP 2 218 743、WO 2011/054791和WO 2011/067057中描述的光聚合物膜中，在大量不同的胶粘剂中出现了这样的颜色改变。

在现有技术中，例如由申请US 2003148192(A1)和CN 101320208原则上已知施加在未曝光的全息光聚合物上的保护层。由于这里所使用的光聚合物的化学结构改变，在那里提及的组合物中的大多数并不适用于在这种情况中的保护层，因为，由于混浊、与未曝光的光聚合物的反应、不相容或欠佳的可润湿性，它们阻碍全息图曝光到光聚合物膜中。

发明内容

因此，本发明的目的在于进一步研发本文开篇所提及类型的全息介质，使其不黏并且免受有害的化学影响，例如折射率匹配液体或胶粘剂之害。同时，该介质的光学性能不应受到不利影响，由此可将全息图容易地曝光在该介质中。

在本文开篇所提及类型的全息介质的情况中，所述目的通过对于所述光聚合物膜的成分而言不可透过的，光学清晰的(optisch klar)且对于波长在350-800nm范围的电磁辐射而言透明的保护层得以实现。

根据本发明，可特别优选使用描述于EP 2 372 454中的聚氨酯-基质聚合物和丙烯酸酯-书写单体。对此尤其参考EP 2 372 454的下列段落：聚氨酯-基质聚合物[0016-0088]；丙烯酸酯-书写单体[0089-0096]。

根据本发明，描述于EP 2 218 743 A1的[0043-0045]段中的化合物尤其适合用作光引发剂。

同样可行的是，所述光聚合物膜包含另外的成分。如果所述光聚合物膜包含描述于EP 2 372 454的[0097]段中的增塑剂，则是特别优选的。

根据本发明一个优选的实施方案，所述保护层可完全覆盖所述光聚合物膜的至少一个表面。

同样优选的是，所述保护层具有1-40μm，优选3-25μm和非常特别优选5-20μm的厚度。

在本发明的扩展方案中提供，所述保护层包含聚氨酯-、聚氯丁二烯-和/或丙烯酸酯聚合物或由其构成。

在本发明的另一实施方案中，所述保护层可包含高分子量的未交联聚合物或高网络密度的三维网状结构或由其构成。

高网络密度的三维网状结构尤其可通过具有数均当量摩尔质量<1500g/mol和特别优选<1200g/mol的组分反应获得。

在本发明中，将仅由线性聚合物链构成的聚合物称为未交联的。

所述高分子量的未交联聚合物尤其可具有>7500g/mol并优选>10000g/mol的平均摩尔质量。

根据另一优选实施方案提供，所述保护层可通过将水性或低溶剂含量的聚合物组合物施加在所述光聚合物膜上而得到。