[发明专利]光学部件、摄像装置和光学部件的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及在基材上设置有多孔玻璃膜的光学部件和设置有该光学部件的摄像装置。此外，本发明涉及该光学部件的制造方法。

背景技术

近年来，已高度期待多孔玻璃作为吸附剂、微载体支持体、分离膜、光学材料等的工业利用。特别地，由于低折射率的特性，多孔玻璃具有广阔的作为光学部件的利用范围。

关于较容易地制造多孔玻璃的方法，已提及利用相分离现象的方法。显示相分离现象的多孔玻璃的母体材料的典型实例为由氧化硅、氧化硼、碱金属氧化物等制成的硼硅酸盐玻璃。制备中，通过将成型的硼硅酸盐玻璃保持在恒定温度下的热处理来诱发相分离现象(以下称为相分离处理)，并且通过使用酸溶液的蚀刻将作为可溶成分的非氧化硅富集相洗脱。构成这样制备的多孔玻璃的骨架主要是氧化硅。多孔玻璃的骨架直径、孔直径和孔隙率影响光的反射率和折射率。

NPL1公开了如下的构成，其中在蚀刻中以使非氧化硅富集相的洗脱变得部分不足的方式控制孔隙率，由此，折射率从表面向内部增加。因此，使多孔玻璃表面的反射减小。

同时，PTL1公开在基材上形成多孔玻璃膜的方法。具体地，通过印刷法在基材上形成含有硼硅酸盐玻璃(可相分离的玻璃)的膜，并且通过相分离处理和蚀刻处理在该基材上形成多孔玻璃膜。

[引用列表]

[专利文献]

[PTL1]日本专利公开No.01-083583

[非专利文献]

[NPL1]J.Opt.Soc.Am.,第66卷,No.6,1976

发明内容

技术问题

如PTL1中所述在基材上形成几微米的多孔玻璃膜的情形下，光入射到多孔玻璃表面时，在多孔玻璃表面反射的光与在基材和多孔玻璃之间的界面反射的光干涉，以致发生波纹(干涉条纹)。

NPL1没有公开在基材上设置多孔玻璃层的构成。根据NPL1中所述的方法，难以控制蚀刻的进行程度，因此，难以控制折射率。此外，作为可溶成分的非富氧化硅相残留，由此使耐水性劣化，以致在用作光学部件时发生问题，例如雾化。

本发明提供光学部件，其在基材上包括多孔玻璃膜，其中波纹得到抑制，和容易制造该光学部件的方法。

问题的解决方案

根据本发明的方面的光学部件设置有基材和在上述基材上设置的多孔玻璃膜，其中在上述基材与上述多孔玻璃膜之间的界面区域中从上述基材向上述多孔玻璃膜的方向上孔隙率增加并且在光学部件中，该孔隙率从上述基材向上述多孔玻璃膜的表面在膜厚度方向上是连续的。

根据本发明方面的在基材上设置有多孔玻璃膜的光学部件的制造方法包括下述步骤：在该基材上形成含有玻璃粉末的玻璃粉末膜；通过以比上述玻璃粉末膜的中央更接近上述基材的一侧的温度与相对于上述玻璃粉末膜的中央、与上述基材相反的一侧的温度相比变得更高的方式将上述玻璃粉末膜加热和熔合，从而在上述基材上形成可相分离的母体玻璃膜；通过加热上述母体玻璃膜从而在上述基材上形成相分离的玻璃膜；和通过对上述相分离的玻璃膜进行蚀刻处理而在上述基材上形成多孔玻璃膜。

发明的有利效果

根据本发明的方面，提供光学部件，其在基材上包括多孔玻璃膜，其中波纹得到抑制，和容易制造该光学部件的方法。

附图说明

图1是表示根据本发明方面的光学部件的实例的截面示意图。

图2是表示孔隙率的图。

图3A是表示平均孔直径的图。

图3B是表示平均骨架直径的图。

图4是表示包括根据本发明方面的光学部件的摄像装置的实例的示意图。

图5A是表示根据本发明方面的光学部件的制造方法的实例的截面示意图。

图5B是表示根据本发明方面的光学部件的制造方法的实例的截面示意图。

图5C是表示根据本发明方面的光学部件的制造方法的实例的截面示意图。

图5D是表示根据本发明方面的光学部件的制造方法的实例的截面示意图。

图6是实施例2中制备的光学部件的横截面的电子显微照片。

图7是表示实施例1-3和比较例1的反射率的波长依赖性的图。

具体实施方式

以下参照根据本发明的实施方案对本发明详细说明。在这方面，相关领域中众所周知或公知的技术用于本发明的附图和说明书中没有具体示出的部分。

[光学部件]