[发明专利]RFID标签在审

专利信息
申请号: 201280047245.9 申请日: 2012-09-27
公开(公告)号: CN104025126A 公开(公告)日: 2014-09-03
发明(设计)人: 远藤俊博;石坂裕宣;太田雅彦;田崎耕司;细井博之;角田让;成田博明;佐藤博树 申请(专利权)人: 日立化成株式会社
主分类号: G06K19/077 分类号: G06K19/077;G06K19/07;H01Q1/40;H01Q7/00;H01Q9/26;H01Q9/27
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 钟晶;於毓桢
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: rfid 标签
【权利要求书】:

1.一种RFID标签,其为具有基材、配置在所述基材上的天线、配置在所述基材上且与所述天线连接的IC芯片、以及密封该IC芯片和天线的密封材料的RFID标签,

所述天线为线圈天线或者环形天线,

包含所述天线的电感L和所述IC芯片的静电容量C而形成的电路的共振频率f0为IC芯片的工作频率或者在其附近,所述IC芯片与所述金属层之间的电磁耦合使所述IC芯片的静电容量实质增加。

2.一种RFID标签,其为具有基材、配置在所述基材上的天线、隔着金属层配置在所述基材上且与所述天线连接的IC芯片、以及密封该IC芯片和天线的密封材料的RFID标签,

所述天线为线圈天线或者环形天线,

包含所述天线的电感L和所述IC芯片的静电容量C而形成的电路的共振频率f0为IC芯片的工作频率或者在其附近,所述IC芯片与所述金属层之间的电磁耦合使所述IC芯片的静电容量实质增加。

3.根据权利要求1或者2所述的RFID标签,IC芯片的工作频率为0.86~0.96GHz,包含天线的电感L和IC芯片的静电容量C而形成的电路的共振频率f0为0.2~2GHz,

或者IC芯片的工作频率为13.56MHz,所述共振频率f0为13.56~29MHz,

或者IC芯片的工作频率为2.45GHz,所述共振频率f0为2~2.45GHz。

4.根据权利要求1~3中任一项所述的RFID标签,以具有间隙的方式邻接的天线的构成部分提供静电容量,使具有IC芯片和配置在其外周部的天线的构成整体的实质静电容量与所述IC芯片单一物体的静电容量相比增加。

5.根据权利要求1~4中任一项所述的RFID标签,RFID标签的大小为长13mm以下、宽13mm以下以及高1.0mm以下,或者长4mm以下、宽4mm以下以及高0.4mm以下,或者长2.5mm以下、宽2.5mm以下以及高0.3mm以下,或者长1.9mm以下、宽1.9mm以下以及高0.3mm以下。

6.根据权利要求1~5中任一项所述的RFID标签,天线为线圈状。

7.根据权利要求1~6中任一项所述的RFID标签,工作频带为13.56MHz~2.48GHz。

8.根据权利要求1~7中任一项所述的RFID标签,工作频带为0.86~0.96GHz。

9.根据权利要求1~8中任一项所述的RFID标签,密封材料的相对介电常数为2.6以上。

10.根据权利要求1~9中任一项所述的RFID标签,导线间距离相对于天线的导线宽度为0.2mm比0.2mm~0.05mm比0.05mm的范围。

11.根据权利要求1~10中任一项所述的RFID标签,通过使用以环氧树脂、碳以及二氧化硅为主要成分的密封材料而提高了耐热性。

12.根据权利要求1~11中任一项所述的RFID标签,其具有天线、与该天线连接的IC芯片以及密封该IC芯片和天线的密封材料,所述RFID标签如下获得:使用抗蚀剂在不锈钢板上形成图案,通过镀敷在无抗蚀剂部分形成金属,抗蚀剂剥离后搭载IC芯片并电连接所述金属与IC芯片,使用密封材料将所述金属和所述IC芯片密封,仅将不锈钢板剥离,从而得到。

13.根据权利要求12所述的RFID标签,金属为以镍作为主要成分的金属。

14.根据权利要求12或者13所述的RFID标签,通过镀敷形成的金属在RFID标签中心侧比在表层侧更粗。

15.根据权利要求1~14中任一项所述的RFID标签,金属露出于表面。

16.一种半导体封装,通过将权利要求15所述的RFID标签全都密封,从而使RFID标签的金属不露出于表面。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日立化成株式会社,未经日立化成株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201280047245.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top