[发明专利]包含具有桥形网络的流体模块的井下流体流控制系统及其用法在审

专利信息
申请号: 201280041339.5 申请日: 2012-08-05
公开(公告)号: CN103764939A 公开(公告)日: 2014-04-30
发明(设计)人: M·L·夫瑞普;贾森·D·戴克斯特拉;约翰·查理·加诺;卢克·威廉·霍尔德曼 申请(专利权)人: 哈利伯顿能源服务公司
主分类号: E21B21/08 分类号: E21B21/08;E21B34/06;E21B34/16
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 代理人: 金鹏
地址: 美国得*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 包含 具有 网络 流体 模块 井下 控制系统 及其 用法
【权利要求书】:

1.一种井下流体流控制系统,包括:

流体模块,包括具有第一分支流路和第二分支流路的桥形网络,每个分支流路包括至少一个流体流阻流器和压力输出端;

其中,所述第一分支流路的压力输出端和所述第二分支流路的压力输出端之间的压力差能够操作以通过所述流体模块控制流体流。

2.根据权利要求1所述的流量控制系统,其中所述第一分支流路和所述第二分支流路分别包括至少两个流体流阻流器。

3.根据权利要求2所述的流量控制系统,其中每个分支流路的所述压力输出端位于所述两个流体流阻流器之间。

4.根据权利要求2所述的流量控制系统,其中每个分支流路的所述两个流体流阻流器对流体粘性具有不同的反应。

5.根据权利要求2所述的流量控制系统,其中每个分支流路的所述两个流体流阻流器对流体密度具有不同的反应。

6.根据权利要求1所述的流量控制系统,其中所述第一分支流路和所述第二分支流路分别与主流路具有共同的流体入口和共同的流体出口。

7.根据权利要求6所述的流量控制系统,其中所述主流路和所述分支流路之间的流体流量比在约5比1至约20比1之间。

8.根据权利要求6所述的流量控制系统,其中所述主流路和所述分支流路之间的流体流量比大于10比1。

9.根据权利要求6所述的流量控制系统,其中所述流体模块还包括:

阀,具有第一位置和第二位置,在所述第一位置中,所述阀能够操作以允许流体流过所述主流路,在所述第二位置中,所述阀能够操作以禁止流体流过所述主流路,

并且其中所述第一分支流路的压力输出端和所述第二分支流路的压力输出端之间的压力差能够操作以在所述第一位置和所述第二位置之间切换所述阀。

10.根据权利要求9所述的流量控制系统,其中所述流体模块具有注入模式和开采模式,

在所述注入模式中,由注入流体的流出而产生的、所述第一分支流路的压力输出端和所述第二分支流路的压力输出端之间的压力差将所述阀切换至打开所述主流路,

在所述开采模式中,由开采流体的流入而产生的、所述第一分支流路的压力输出端和所述第二分支流路的压力输出端之间的压力差将所述阀切换至关闭所述主流路。

11.根据权利要求9所述的流量控制系统,其中所述流体模块具有第一开采模式和第二开采模式,

在所述第一开采模式中,由期望的流体的流入而产生的、所述第一分支流路的压力输出端和所述第二分支流路的压力输出端之间的压力差将所述阀切换至打开所述主流路,

在所述第二开采模式中,由不期望的流体的流入而产生的所述第一分支流路的压力输出端和所述第二分支流路的压力输出端之间的压力差将所述阀切换至关闭所述主流路。

12.根据权利要求1所述的流量控制系统,其中所述流体流阻流器选自由以下构成的群组:喷嘴、涡流室、流管、流体选择器和矩阵室。

13.一种流量控制筛,包括:

基管,具有内部通道;

过滤介质,围绕所述基管定位;

外壳,围绕所述基管定位,在所述过滤介质和所述内部通道之间限定流体流路;以及

至少一个流体模块,设置在所述流体流路内,所述流体模块包括具有第一分支流路和第二分支流路的桥形网络,每个分支流路包括至少一个流体流阻流器和压力输出端,使得所述第一分支流路的压力输出端和所述第二分支流路的压力输出端之间的压力差能够操作以通过所述流体模块控制流体流。

14.根据权利要求13所述的流量控制筛,其中所述流体流阻流器选自由以下构成的群组:喷嘴、涡流室、流管、流体选择器和矩阵室。

15.根据权利要求13所述的流量控制筛,其中所述第一分支流路和所述第二分支流路分别与主流路具有共同的流体入口和共同的流体出口,

其中所述第一分支流路和所述第二分支流路分别包括两个流体流阻流器,其中每个分支流路的所述压力输出端位于所述两个流体流阻流器之间,

并且所述流体模块还包括阀,所述阀具有允许流体流过所述主流路的第一位置和限制流体流过所述主流路的第二位置。

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