[发明专利]用于负型抗蚀剂的可显影底部抗反射涂料组合物

权利要求书

1.一种用于负型可显影底部抗反射涂料(NDBARC)材料的物质组合物，该物质组合物包含聚合物，该聚合物包括至少一个羧酸部分、至少一个可交联脂肪族醇部分以及至少一个芳香族部分。

2.权利要求1的物质组合物，进一步包含光酸产生剂。

3.权利要求1的物质组合物，其中该至少一个羧酸部分包括丙烯酸部分、甲基丙烯酸(MAA)部分、4-乙烯基苯甲酸部分、丙烯酸2-羧乙酯部分以及单-2-(甲基丙烯酰氧基)乙基琥珀酸酯部分中的至少一个。

4.权利要求1的物质组合物，其中该至少一个可交联脂肪族醇部分包括甲基丙烯酸3-羟基-1-金刚烷基酯(HADMA)部分、甲基丙烯酸2-羟乙酯(HEMA)部分、以及甲基丙烯酸3-(2′-羟基乙氧基)-1-金刚烷基酯(HEADMA)部分中的至少一个。

5.权利要求1的物质组合物，其中该至少一个芳香族部分包括甲基丙烯酸9-蒽基甲酯(ANTMA)部分、羟基苯乙烯部分以及苯乙烯部分中的至少一个。

6.权利要求1的物质组合物，其中该至少一个芳香族部分包括至少一个发色团部分，该发色团部分吸收波长选自从100nm至400nm的波长范围的光。

7.权利要求1的物质组合物，其中相对于该至少一个羧酸部分、该至少一个可交联脂肪族醇部分及该至少一个芳香族部分的所有摩尔百分比总和，该至少一个羧酸部分的摩尔百分比为从20%至70%，以及相对于该总和，该至少一个可交联脂肪族醇部分的摩尔百分比为从10%至70%。

8.权利要求1的物质组合物，进一步包含溶剂，其中该聚合物溶于该溶剂。

9.一种用于负型可显影底部抗反射涂料(NDBARC)材料的物质组合物，该物质组合物包含聚合物，该聚合物包括羧酸部分的m个重复单元、可交联脂肪族醇部分的n个重复单元以及芳香族部分的l个重复单元，其中该m、该n及该l的每个独立地为大于1的整数。

10.权利要求1的物质组合物，其中该m、该n及该l的每个独立地为从2至1,000的整数。

11.一种用于负型可显影底部抗反射涂料(NDBARC)材料的物质组合物，该物质组合物包含聚合物，该聚合物包括至少一个羧酸部分、至少一个可交联脂肪族醇部分及至少一个芳香族部分，其中该至少一个羧酸部分包括丙烯酸部分、甲基丙烯酸(MAA)部分、4-乙烯基苯甲酸部分、丙烯酸2-羧乙酯部分以及单-2-(甲基丙烯酰氧基)乙基琥珀酸酯部分中的至少一个，其中该至少一个可交联脂肪族醇部分包括甲基丙烯酸3-羟基-1-金刚烷基酯(HADMA)部分、甲基丙烯酸2-羟乙酯(HEMA)部分、及甲基丙烯酸3-(2′-羟基乙氧基)-1-金刚烷基酯(HEADMA)部分中的至少一个，以及其中该至少一个芳香族部分包括甲基丙烯酸9-蒽基甲酯(ANTMA)部分、羟基苯乙烯部分及苯乙烯部分中的至少一个。

12.一种形成光刻结构的方法，该方法包括：

在基板的表面上形成从底部到顶部的NDBARC层及负型光刻胶层的堆叠物，其中该NDBARC层包含聚合物，该聚合物包括至少一个羧酸部分、至少一个可交联脂肪族醇部分及至少一个芳香族部分；

光刻曝光该堆叠物的一部分；以及

显影该堆叠物，其中在该显影过程中从该基板的该表面上方去除该堆叠物的未曝光部分。

13.权利要求12的方法，其中该NDBARC层进一步包含光酸产生剂。

14.权利要求12的方法，其中该至少一个羧酸部分包括丙烯酸部分、MAA部分、4-乙烯基苯甲酸部分、丙烯酸2-羧乙酯部分以及单-2-(甲基丙烯酰氧基)乙基琥珀酸酯部分中的至少一个。

15.权利要求12的方法，其中该至少一个可交联脂肪族醇部分包括HADMA部分、HEMA部分、及HEADMA部分中的至少一个。

16.权利要求12的方法，其中该至少一个芳香族部分包括ANTMA部分、羟基苯乙烯部分以及苯乙烯部分中的至少一个。

17.权利要求12的方法，其中该至少一个芳香族部分包括至少一个发色团部分，该发色团部分吸收波长选自从100nm至400nm的波长范围的光。