[发明专利]研磨载体及其使用方法

说明书

技术领域

本发明广义地涉及研磨载体和使用其来研磨工件的方法。

背景技术

经常需要磨削或抛光平坦的工件例如盘形制品（如硅片、蓝宝石盘、光学元件，或用于磁记录装置的玻璃或铝基板等等），使得两个主表面均平行且不含有明显的刮伤。材料移除的速率和最终表面粗糙度有所不同的这种磨削或抛光操作可统称为研磨。

用于精磨所述盘的典型研磨机可包括两个叠置台板，所述台板分别设置在所述盘中的一个或多个的上方或下方，从而盘的相对表面可以被同时磨削或抛光。此外，研磨机可以包括研磨载体，研磨载体在磨削或抛光操作过程中定位并保持所述盘。这样的研磨载体可适于相对于台板旋转。例如，研磨机也可包括：外环齿轮，其围绕台板的外周边设置；和内齿轮，其穿过在台板中心形成的孔而突出。研磨载体可具有带齿的外周边，外周边啮合外环齿轮的齿或销和内齿轮的齿或销。例如，内齿轮和外齿轮以相反方向旋转，由此导致研磨载体围绕内齿轮以及绕着研磨载体的轴线按球形旋转。通常，台板的表面为相对平坦和平面的，并且适用于使用研磨技术的大多数抛光操作。

在某些研磨机中，设置在台板的工作面上方的固定磨料制品已用于减少与将台板定期修整至必要的平坦性和共面性程度相关的维护成本和附带的非生产性时间。使用中，工件设置在研磨载体的小孔内，使台板集合到一起以在工件上施加预定压力，并且转动研磨载体和工件，从而磨平、抛光和/或磨薄工件的一个或多个表面。

发明内容

在研磨工艺的过程中，研磨载体的挠曲可导致其接触一种或多种固定磨料制品。如果研磨载体由耐用材料例如钢制成，则研磨载体和固定磨料制品之间的这种接触通常导致固定磨料制品的过早磨损。尽管有上述公开，但在减少固定磨料制品的过早磨损方面仍需要进行技术改进。

在一个方面，本发明提供研磨载体，所述研磨载体包括：

基部，所述基部具有对置的第一主表面和第二主表面以及从所述第一主表面延伸至所述第二主表面的至少一个小孔；和

第一耐磨层，所述第一耐磨层设置在所述基部的所述第一主表面上，所述耐磨层包括：

第一外聚合物层，所述第一外聚合物层固定到所述基部，其中所述第一外聚合物层具有第一暴露的主表面，并且其中所述第一外聚合物层包含聚醚醚酮或超高分子量聚乙烯中的至少一者；和

第一粘合剂层，所述第一粘合剂层设置在所述第一外聚合物层和所述基部之间。

在一些实施例中，研磨载体还包括：

第二耐磨层，所述第二耐磨层设置在所述基部的所述第二主表面上，所述耐磨层包括：

第二外聚合物层，所述第二外聚合物层固定到所述基部，其中所述第二外聚合物层具有第二暴露的主表面，并且其中所述第二外聚合物层包含聚醚醚酮或超高分子量聚乙烯中的至少一者；和

第二粘合剂层，所述第二粘合剂层设置在所述第一外聚合物层和所述基部之间。

有利地，根据本发明的研磨载体可在研磨型研磨工艺的过程中显现出可与那些商用研磨载体相当或更优秀的耐磨特性。

根据本发明的研磨载体可用于研磨工件。因此，在另一方面，本发明提供一种研磨的方法，所述方法包括：

将工件置于根据本发明的研磨载体的至少一个小孔中；

将研磨载体置于具有至少一个研磨表面的研磨机中；以及

提供在所述工件和所述至少一个研磨表面之间的相对运动，从而研磨所述工件。

在考虑具体实施方式以及所附权利要求书之后，将进一步理解本发明的特征和优点。

附图说明

图1是根据本发明的示例性研磨载体的示意性侧视图。

图2是根据本发明的示例性研磨载体的平面图。

图3A-3C是根据本发明的工件载体的示例性部分剖视图。

应当理解，本领域的技术人员可以设计出许多其它修改形式和实施例，这些修改形式和实施例落在本发明的原理的范围和精神内。附图可能未按比例绘制。在所有附图中，相同参考标号可以用来表示相同部件。

具体实施方式