[发明专利]无窗电离装置

权利要求书

1.一种电离装置，其包括：

配置成生成等离子体的等离子体源，所述等离子体包括光、等离子体离子和等离子体电子，所述等离子体源包括孔径，所述孔径布置成使得所述光的至少一部分穿过所述孔径并且入射在气体样本上；

电离区域；以及

等离子体偏转装置，所述等离子体偏转装置包括配置成建立电场的多个电极，其中所述电场基本上防止所述等离子体离子进入所述电离区域。

2.根据权利要求1所述的电离装置，其中所述等离子体偏转装置还包括配置成建立磁场的磁体，其中所述磁场基本上防止所述等离子体的电子进入所述电离区域。

3.根据权利要求2所述的电离装置，其中所述电场和所述磁场大致正交。

4.根据权利要求2所述的电离装置，其中所述电场和所述磁场大致平行。

5.根据权利要求2所述的电离装置，其中所述电场和所述磁场大致反平行。

6.根据权利要求2所述的电离装置，其中所述电场在轴向方向上定向并且所述磁场在径向方向上定向。

7.根据权利要求2所述的电离装置，其中所述电场和所述磁场在径向方向上定向。

8.一种质谱仪，其包括质量分析器、检测器和离子源，其中所述离子源包括根据权利要求1所述的电离装置。

9.一种将样本气体暴露于激发光的方法，所述方法包括：

生成包括光、等离子体离子和等离子体电子的等离子体；

使来自所述等离子体的所述光的至少一部分穿过孔径到达电离区域；

使气体样本穿过所述电离区域；以及

生成电场以基本上防止所述等离子体离子进入所述电离区域。

10.根据权利要求9所述的方法，其还包括生成磁场以基本上防止所述等离子体电子进入所述电离区域。

11.根据权利要求10所述的方法，其中所述电场和所述磁场大致正交。

12.根据权利要求10所述的方法，其中所述电场和所述磁场大致平行。

13.根据权利要求10所述的方法，其中所述电场和所述磁场大致反平行。

14.根据权利要求10所述的方法，其中所述电场在轴向方向上定向并且所述磁场在径向方向上定向。

15.一种电离装置，其包括：

具有入口端和出口端的通道，所述入口端配置成接收气体样本；

等离子体源，所述等离子体源配置成生成光、等离子体离子和等离子体电子，所述等离子体源包括孔径，所述孔径布置成使得所述光的至少一部分穿过所述孔径并且入射在从所述通道的所述出口端释放的气体样本上；

多个电极，所述多个电极配置成建立电场以引导所述等离子体离子，孔径；以及

磁体，所述磁体配置成建立磁场以引导所述等离子体电子，其中所述磁场基本上防止所述等离子体电子通过所述孔径离开，并且所述电场和所述磁场正交。

16.根据权利要求15所述的电离装置，其中所述磁体包括大致围绕所述等离子体源的外磁体和大致围绕所述通道的内磁体。

17.根据权利要求15所述的电离装置，其中所述电场在轴向方向上定向并且所述磁场在径向方向上定向。

18.根据权利要求15所述的电离装置，其还包括布置在所述孔径和所述通道之间的等离子体离子偏转电极，其中所述等离子体离子偏转电极配置成吸引或排斥穿过所述孔径的等离子体离子。

19.根据权利要求15所述的电离装置，其还包括布置在所述孔径和所述通道之间的等离子体电子偏转电极，其中所述等离子体电子偏转电极配置成吸引或排斥穿过所述孔径的等离子体电子。

20.一种质谱仪，其包括质量分析器、检测器和离子源，其中所述离子源包括根据权利要求15所述的电离装置。