[发明专利]玻璃基板的制造方法及其装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种能够对大型玻璃基板均匀地进行薄型化的玻璃基板的制造方法及其化学研磨装置。

背景技术

作为在输送玻璃基板的同时喷射蚀刻液的制造加工装置，已知的有，例如，专利文献1中记载的湿法蚀刻装置。并且，该装置利用蚀刻液去除形成于玻璃基板的铬或者铬合金膜。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本国特开2000-144454号公报

发明内容

发明要解决的课题

然而，上述发明仅仅记载了去除形成在玻璃基板上的薄膜的结构或方法，并没有记载了对玻璃基板自身进行薄型化的结构或方法。

此处，为了对玻璃基板自身进行蚀刻（化学研磨）而进行薄型化，不得不使用含有氢氟酸的化学研磨液，在该情况下，强烈期望能够确保操作员的安全，并且，实现高品质的化学研磨处理。特别是最近的电子仪器都要求小型化、轻量化，所以也要求玻璃基板的进一步的薄型化（板厚度为0.5mm左右或其以下），如果由化学研磨而产生研磨不均或白浊现象，则其玻璃基板的使用价值就会丧失。

本发明是鉴于上述课题而做出的，其目的在于提供一种能够安全地实现高品质的化学研磨处理的玻璃基板的制造方法及其化学研磨装置。

解决课题的方法

为了达到上述目的，本发明的化学研磨装置具有：输送通路，其沿水平方向输送玻璃基板；研磨处理部，其对在输送通路移动中的玻璃基板喷射化学研磨液而对玻璃基板进行薄型化；洗涤处理部，其对经过研磨处理部而被薄型化了的玻璃基板喷射洗涤液进行洗涤，其中，在向所述研磨处理部导入玻璃基板的导入部设置有：旋转滚轮（roller），其轻轻地保持玻璃基板的表面并进行旋转；喷射部，其从研磨处理部的外侧向所述旋转滚轮喷射水。

优选地，在所述研磨处理部配置有沿玻璃基板的输送方向延伸的一组喷射管，并且从形成于各个喷射管的喷出口向玻璃基板喷出化学研磨液。此处，优选地，一组喷射管配置于璃基板的上部和下部。此外，更优选地，一组喷射管，其轴向长度设定在2.5m以下。

优选地，所述一组喷射管配置于与所述输送方向垂直相交的玻璃基板的宽度方向，向中央位置的喷射管供给比周边位置的喷射管相比高压的化学研磨液。另外，优选地，一组喷射管以可以旋转的方式被保持，且沿喷射管的圆周方向摇动。

优选地，所述研磨处理部以如下方式构成：其被分割成具有几乎相同结构的多个处理腔室，且使用相同成分的研磨液而对玻璃基板进行多次研磨。此处，优选地，所述多个处理腔室经由中继腔室而连接。更优选地，在所述中继腔室中，具有与处理腔室相同成分的化学研磨液向玻璃基板喷出。

此外，本发明的玻璃基板的制造方法为使用化学研磨装置对板厚度进行薄型化的制造方法。该化学研磨装置具有：输送通路，其沿水平方向输送玻璃基板；研磨处理部，其对在输送通路移动中的玻璃基板喷射化学研磨液而对玻璃基板进行薄型化；洗涤处理部，其对经过研磨处理部而被薄型化了的玻璃基板喷射洗涤液进行洗涤，在所述研磨处理部的玻璃基板导入部设置有：旋转滚轮，其轻轻地保持玻璃基板的表面并进行旋转；喷射部，其从研磨处理部的外侧向所述旋转滚轮喷射水。

发明效果

根据上述发明，能够安全地实现高品质的化学研磨处理。

附图说明

图1是表示实施例的化学研磨装置的概略主视图。

图2是说明图1的化学研磨装置的排气线（line）的图。

图3是说明一组喷出管和曲柄机构的图。

图4是说明曲柄机构的动作的图。

具体实施方式

以下，根据实施例对本发明进行详细说明。图1和图2是表示实施例的化学研磨装置10的概略主视图。另外，对于同一个化学研磨装置10，图1中表示化学研磨液的供液线LN1和洗涤水的供水线LN2以及回收线LN3，图2中表示排气线LN4。