[发明专利]二氧化氯前体及其使用方法

权利要求书

1.一种用于向区域中引入卤氧化物的盐的方法，在所述区域内，所述卤氧化物的盐与还原剂接触，导致卤氧化物的盐转化为卤化物的二氧化物，该方法包括：在所有或部分卤氧化物的盐转化为卤化物的二氧化物的条件下，向反应区域中引入卤氧化物的盐的步骤，其中，所述反应区域中含有还原剂。

2.一种用于降低、钝化、破坏或消除一种或多种还原态硫化合物的方法，该方法包括：在所有或部分卤氧化物的盐转化为卤化物的二氧化物的条件下，使还原态硫化合物与卤氧化物的盐接触的步骤，从而降低、钝化、破坏或消除一种或多种还原态硫化合物。

3.一种用于氧化一种或多种聚合物、一种或多种还原态硫化合物或者一种或多种还原态金属的方法，该方法包括：在所有或部分卤氧化物的盐转化为卤化物的二氧化物的条件下，在反应区域中使聚合物、还原态硫化合物或还原态金属与卤氧化物的盐接触的步骤，从而氧化一种或多种聚合物、一种或多种还原态硫化合物或者一种或多种还原态金属。

4.一种用于钝化、破坏或杀灭一种或多种微生物的方法，该方法包括：在所有或部分卤氧化物的盐转化为卤化物的二氧化物的条件下，使微生物与卤氧化物的盐接触的步骤，从而钝化、破坏或杀灭一种或多种微生物。

5.根据权利要求1-4中任意一项所述的方法，其中，所述条件包括：温度大于约110℉，更优选，大于约115℉。

6.根据权利要求1或3所述的方法，其中，所述区域中包括含有一种或多种固体、液体或气态烃的地质学材料。

7.根据权利要求1或3所述的方法，其中，所述区域包括烃沉积物、石油沉积物、烃或石油产物的地层，或者烃或石油加工产物或设备。

8.根据权利要求2或4所述的方法，其中，所述还原态硫化合物或微生物存在于含有一种或多种固体、液体或气态烃的地质学材料，或者烃沉积物、石油沉积物、烃或石油产物的地层，或者烃或石油加工产物或设备中。

9.根据权利要求1-4中任意一项所述的方法，其中，所述卤氧化物的盐包括+5价态的氯。

10.根据权利要求1或3所述的方法，其中，在所述区域中，所述卤化物的二氧化物降低、钝化、破坏或消除一种或多种还原态化合物。

11.根据权利要求1-4中任意一项所述的方法，其中，所述卤氧化物的盐包括氯酸盐。

12.根据权利要求1-4中任意一项所述的方法，其中，所述条件包括还原化合物、酸或者一种或多种所述还原化合物和酸的混合物。

13.根据权利要求1-4中任意一项所述的方法，该方法还包括：在进入反应区域之前或之时，或者在与一种或多种还原态硫化合物或者一种或多种微生物接触之前或之时，将卤氧化物的盐加热至大于约110℉，更优选大于约115℉的温度。

14.根据权利要求1所述的方法，其中，所述还原剂包括元素硫、还原态硫化合物、还原态有机化合物或还原态金属离子，或它们的混合物。

15.根据权利要求1-4中任意一项所述的方法，其中，所述卤化物的二氧化物包括二氧化氯。

16.根据权利要求1-4中任意一项所述的方法，其中，在引入到反应区域中之前，或者在与还原态硫化合物或微生物接触之前，将所述卤氧化物的盐与约0.02-5mg/l范围、并优选约1-2mg/l范围的二氧化氯的游离残余物共混或混合。

17.根据权利要求1-4中任意一项所述的方法，其中，在引入到反应区域中之前，或者在与还原态硫化合物或微生物接触之前，将所述卤氧化物的盐与酸共混或混合，并且其中，在引入到反应区域中之前，或者在与还原态硫化合物或微生物接触之前，所述卤氧化物的盐和酸不反应形成卤化物的二氧化物。

18.根据权利要求11或17所述的方法，其中，所述酸包括柠檬酸、乳酸、甲酸、草酸、醋酸、乙酸或丙酸或者一种或多种所述弱酸的混合物。

19.根据权利要求1-4中任意一项所述的方法，其中，所述卤氧化物的盐在含水介质中。

20.根据权利要求19所述的方法，其中，所述含水介质包括水。