[发明专利]等离子体产生装置及等离子体产生方法有效

专利信息
申请号: 201280014102.8 申请日: 2012-05-14
公开(公告)号: CN103429539B 公开(公告)日: 2016-03-02
发明(设计)人: 熊谷裕典;今井伸一 申请(专利权)人: 松下知识产权经营株式会社
主分类号: C02F1/48 分类号: C02F1/48
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 韩聪
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 等离子体 产生 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种等离子体产生装置,其具有:

第1电极,其至少一部分被配置在放入液体的处理槽内;

第2电极,其至少一部分被配置在所述处理槽内;

气泡产生部,其在所述处理槽内放入了所述液体时使所述液体内产生 气泡,该气泡产生部产生所述气泡,使得所述第1电极的位于所述处理槽 内的表面之中至少露出导电体的表面位于所述气泡内;

气体供给装置,其从所述处理槽的外部向所述气泡产生部供给所述气 泡产生部产生所述气泡所需的流量的气体;

电源,其向所述第1电极与所述第2电极之间施加电压;和

控制装置,其控制所述气体供给装置,使得向所述气泡产生部供给气 体,在达成所述第1电极的露出导电体的表面被所述气泡覆盖的状态之 后,控制所述电源使得向所述第1电极与所述第2电极之间施加电压。

2.根据权利要求1所述的等离子体产生装置,其中,

还具有气泡检测装置,其对所述第1电极的至少露出导电体的表面位 于所述气泡内这一状况进行检测,

所述控制装置在所述气泡检测装置检测到所述第1电极的露出导电 体的表面位于所述气泡内这一状况之后,控制所述电源使得向所述第1 电极与所述第2电极之间施加电压。

3.根据权利要求1所述的等离子体产生装置,其中,

所述控制装置控制所述气体供给装置,使得向所述气泡产生部供给气 体,在经过了用于达成所述第1电极的露出导电体的表面位于所述气泡内 的状态的规定时间之后,控制所述电源使得向所述第1电极与所述第2 电极之间施加电压。

4.根据权利要求2所述的等离子体产生装置,其中,

所述气泡检测装置基于伴随所述气泡的产生而产生的以下变化的任 一个或多个变化,来检测所述第1电极的至少露出导电体的表面位于所述 气泡内这一状况:

对所述第1电极的露出导电体的表面附近进行拍摄而得到的图像的 变化、

与所述第1电极电绝缘的其他电极和所述第1电极之间的电阻的变 化、

与所述第1电极电绝缘的其他电极和所述第1电极之间的电容的变 化、

与所述第1电极电绝缘的第3电极和第4电极之间的电阻的变化、

与所述第1电极电绝缘的第3电极和第4电极之间的电容的变化、

通过所述液体中的光的光路或光量的变化、

通过所述液体中的声波的变化、及

所述液体中的压力的变化。

5.根据权利要求1所述的等离子体产生装置,其中,

所述电源的输出容量的最大值比0W大、且低于1000W。

6.根据权利要求1所述的等离子体产生装置,其中,

所述第1电极是具有开口部的中空的形状,

与所述第1电极的外周面相接地配置有绝缘体,

所述气泡产生部自所述第1电极的开口部产生气泡,

所述气泡产生部产生所述气泡,使得所述第1电极的位于所述处理槽 内的表面之中未配置所述绝缘体且露出所述导电体的表面位于所述气泡 内。

7.根据权利要求6所述的等离子体产生装置,其中,

在将施加重力的方向设为0°、与施加重力的方向相反的方向设为 180°时,所述第1电极的开口部开口的方向为0°~60°。

8.根据权利要求6所述的等离子体产生装置,其中,

在将施加重力的方向设为0°、与施加重力的方向相反的方向设为 180°时,所述第1电极的开口部开口的方向为80°~100°。

9.根据权利要求6所述的等离子体产生装置,其中,

所述第1电极的内径为0.3mm~2mm,所述第1电极的外径为1mm~ 3mm。

10.根据权利要求6所述的等离子体产生装置,其中,

所述第1电极的所述开口部的端面位于所述绝缘体的端面的内侧。

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