[发明专利]成膜方法及成膜装置

权利要求书

1.一种成膜方法，其特征在于，

将杂质的固态源加热并使其蒸发而产生气体，

通过将所述气体向基板喷射而在所述基板上形成含有杂质的膜。

2.如权利要求1所述的成膜方法，其特征在于，

在喷射所述气体之前将所述基板预热。

3.如权利要求1或2所述的成膜方法，其特征在于，

将所述固态源配置在具有喷射孔的容器内，

将在所述容器内加热所述固态源而产生的所述气体从所述喷射孔向所述基板喷射。

4.如权利要求3所述的成膜方法，其特征在于，

将用于输送所述气体的载流气体导入所述容器内，将所述气体与所述载流气体一同从所述喷射孔喷射。

5.如权利要求1～4中任一项所述的成膜方法，其特征在于，

将所述气体向由搬送装置连续地搬送的所述基板喷射。

6.如权利要求1～5中任一项所述的成膜方法，其特征在于，

在所述膜形成的同时，利用所述气体的温度进行所述杂质向所述基板中的扩散。

7.如权利要求1～6中任一项所述的成膜方法，其特征在于，

所述固态源具有硼。

8.如权利要求1～6中任一项所述的成膜方法，其特征在于，

所述固态源具有氧化磷。

9.一种成膜装置，其特征在于，包括：

加热装置，其将杂质的固态源加热并使其蒸发而产生气体；

喷射装置，其通过将所述气体向基板喷射而在所述基板上形成含有杂质的膜。

10.如权利要求9所述的成膜装置，其特征在于，

具有将喷射所述气体前的所述基板预热的预热装置。

11.如权利要求9或10所述的成膜装置，其特征在于，

具有收纳所述固态源的容器部，

所述加热装置配置在所述容器部的内部，

所述喷射装置为形成于所述容器部的喷射孔。

12.如权利要求11所述的成膜装置，其特征在于，

具有将用于输送所述气体的载流气体导入所述容器部的载流气体导入装置，

所述喷射孔将所述气体与所述载流气体一同喷射。

13.如权利要求9～12中任一项所述的成膜装置，其特征在于，

在所述喷射装置具有连续地搬送所述基板的搬送装置。

14.如权利要求9～13中任一项所述的成膜装置，其特征在于，

在所述膜形成的同时，利用所述气体的温度进行所述杂质向所述基板中的扩散。

15.如权利要求9～14中任一项所述的成膜装置，其特征在于，

所述固态源具有硼。

16.如权利要求9～14中任一项所述的成膜装置，其特征在于，

所述固态源具有氧化磷。