[发明专利]用于反射镜组件的阻挡材料无效

专利信息
申请号: 201280009124.5 申请日: 2012-02-16
公开(公告)号: CN103429968A 公开(公告)日: 2013-12-04
发明(设计)人: S·穆霍帕迪亚伊;D·瓦拉普拉萨德;D·奈尔瓦杰克;A·V·克卡 申请(专利权)人: 霍尼韦尔国际公司
主分类号: F24J2/10 分类号: F24J2/10;H01L31/052;G02B5/12;B32B15/04
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 赵苏林;杨思捷
地址: 美国新*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 用于 反射 组件 阻挡 材料
【权利要求书】:

1.一种反射光学结构,包括:

(a)光学透明基体,其包括位于所述基体背面的反射层;和

(b)阻挡层,其位于所述反射层的至少一个表面的一部分上,所述阻挡层包含含氟聚合物,所述含氟聚合物包含至少一种由式(I)表示的聚合物或聚合物链段:

其中n从约10至约2500,R1、R2和R3独立地选自H和F,且所述聚合物具有从约2000至约200000道尔顿的分子量。

2.如权利要求1的反射光学结构,其中所述至少一种聚合物或聚合物链段由式(II)表示:

其中n为约15至2000。

3.如权利要求1的反射光学结构,其中所述含氟聚合物阻挡层的厚度在从约1至约3000微米的范围内。

4.一种反射光学结构,包括:

(a)光学透明基体,其包括位于所述基体背面的反射层;和

(b)阻挡层,其位于所述反射层的至少一个表面的一部分上,所述阻挡层包含至少一种聚合物,所述聚合物选自来自四氟丙烯或五氟丙烯化合物的均聚物和共聚物,其中所述聚合物具有从约2000至约200000道尔顿的分子量。

5.如权利要求5的反射光学结构,其中所述共聚物包含一种或多种共聚单体,所述共聚单体选自乙烯、丙烯、丁烯、氟乙烯、1,1-二氟乙烯、1,2-二氟乙烯、三氟乙烯、四氟乙烯、氯三氟乙烯、氯乙烯、1,1-二氯乙烯、1,2-二氯乙烯、三氯乙烯和四氯乙烯。

6.一种形成反射光学结构的方法,包括:

(a)将阻挡涂层溶液施加到位于光学透明基体背面的反射层上,该阻挡涂层溶液包含至少一种聚合物,该聚合物选自来自四氟丙烯或五氟丙烯化合物的均聚物和共聚物,其中所述聚合物具有从约2000至约200000道尔顿的分子量;以及

(b)固化所述防护涂层溶液,以在所述反射层上形成阻挡层。

7.如权利要求6的方法,其中所述阻挡涂层溶液进一步包含有机溶剂。

8.如权利要求7的方法,其中所述有机溶剂包括乙酸乙酯。

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