[发明专利]用于反射镜组件的阻挡材料无效
| 申请号: | 201280009124.5 | 申请日: | 2012-02-16 |
| 公开(公告)号: | CN103429968A | 公开(公告)日: | 2013-12-04 |
| 发明(设计)人: | S·穆霍帕迪亚伊;D·瓦拉普拉萨德;D·奈尔瓦杰克;A·V·克卡 | 申请(专利权)人: | 霍尼韦尔国际公司 |
| 主分类号: | F24J2/10 | 分类号: | F24J2/10;H01L31/052;G02B5/12;B32B15/04 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 赵苏林;杨思捷 |
| 地址: | 美国新*** | 国省代码: | 美国;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 反射 组件 阻挡 材料 | ||
1.一种反射光学结构,包括:
(a)光学透明基体,其包括位于所述基体背面的反射层;和
(b)阻挡层,其位于所述反射层的至少一个表面的一部分上,所述阻挡层包含含氟聚合物,所述含氟聚合物包含至少一种由式(I)表示的聚合物或聚合物链段:
其中n从约10至约2500,R1、R2和R3独立地选自H和F,且所述聚合物具有从约2000至约200000道尔顿的分子量。
2.如权利要求1的反射光学结构,其中所述至少一种聚合物或聚合物链段由式(II)表示:
其中n为约15至2000。
3.如权利要求1的反射光学结构,其中所述含氟聚合物阻挡层的厚度在从约1至约3000微米的范围内。
4.一种反射光学结构,包括:
(a)光学透明基体,其包括位于所述基体背面的反射层;和
(b)阻挡层,其位于所述反射层的至少一个表面的一部分上,所述阻挡层包含至少一种聚合物,所述聚合物选自来自四氟丙烯或五氟丙烯化合物的均聚物和共聚物,其中所述聚合物具有从约2000至约200000道尔顿的分子量。
5.如权利要求5的反射光学结构,其中所述共聚物包含一种或多种共聚单体,所述共聚单体选自乙烯、丙烯、丁烯、氟乙烯、1,1-二氟乙烯、1,2-二氟乙烯、三氟乙烯、四氟乙烯、氯三氟乙烯、氯乙烯、1,1-二氯乙烯、1,2-二氯乙烯、三氯乙烯和四氯乙烯。
6.一种形成反射光学结构的方法,包括:
(a)将阻挡涂层溶液施加到位于光学透明基体背面的反射层上,该阻挡涂层溶液包含至少一种聚合物,该聚合物选自来自四氟丙烯或五氟丙烯化合物的均聚物和共聚物,其中所述聚合物具有从约2000至约200000道尔顿的分子量;以及
(b)固化所述防护涂层溶液,以在所述反射层上形成阻挡层。
7.如权利要求6的方法,其中所述阻挡涂层溶液进一步包含有机溶剂。
8.如权利要求7的方法,其中所述有机溶剂包括乙酸乙酯。
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