[发明专利]太阳辐射吸收性制剂以及相关设备和方法

权利要求书

1.一种漆制剂，其包含：

颜料黑26；

苯基甲基聚硅氧烷树脂粘合剂；

硼基玻璃添加剂；和

无机填料，

其中通过所述漆制剂在大于200℃的温度固化，能够将所述粘合剂不可逆地转化成无机粘合剂，和

其中，所述颜料黑26在所述漆制剂中的浓度是5％(wt/wt)-12％(wt/wt)。

2.权利要求1的漆制剂，其中所述漆制剂对于波长范围为250nm-3000nm的光具有至少95％的吸收率。

3.权利要求1的漆制剂，其中所述漆制剂还包括选自下面的至少一种：Cr₂O₃、CoO、CuO、Fe₂O₃、NiO和MnO₂。

4.权利要求1的漆制剂，其中所述无机填料为片状填料。

5.权利要求4的漆制剂，其中所述粘合剂与填料和颜料黑26的比率是1:1到2:1。

6.权利要求1的漆制剂，其中所述颜料黑26由其金属前体来形成。

7.权利要求1的漆制剂，其中所述粘合剂的浓度是20％(wt/wt)-55％(wt/wt)。

8.权利要求1的漆制剂，其中所述粘合剂与无机填料之比是1：1到3：1。

9.权利要求1的漆制剂，其中所述玻璃添加剂是选自下面的至少一种：硼酸、氧化硼、金属硼化物和硼盐。

10.权利要求9的漆制剂，其中所述玻璃添加剂是硼酸钠、四硼酸二钠和四硼酸钾中的一种。

11.权利要求1的漆制剂，其中所述玻璃添加剂处于尺寸为80μm-140μm的粒子形式。

12.权利要求1的漆制剂，其中所述玻璃添加剂的浓度是5％(wt/wt)-20％(wt/wt)。

13.权利要求1的漆制剂，其中所述玻璃添加剂的浓度是1％(wt/wt)-10％(wt/wt)。

14.权利要求1的漆制剂，其中所述无机填料是硅酸盐基材料，其在施涂到基底上时在漆制剂中形成了层化的无机微结构。

15.权利要求14的漆制剂，其中所述无机填料是云母、滑石或者粘土中的一种。

16.权利要求1的漆制剂，其中所述无机填料处于尺寸小于30μm的粒子形式。

17.权利要求1的漆制剂，其中所述无机填料包括选自下面的至少一种：磷酸盐、氧化镁和硅酸盐。

18.权利要求1的漆制剂，其进一步包含选自下面的至少一种：润湿剂、分散剂、增稠剂、消泡剂、静电喷涂或者其他类型的喷涂的改进剂和防沉剂。

19.权利要求1的漆制剂，其进一步包含有机溶剂。

20.权利要求19的漆制剂，其中所述的有机溶剂包括选自下面的至少一种：二醇醚、芳族石脑油溶剂、醋酸丁酯、甲苯和二甲苯族的成员。

21.权利要求19的漆制剂，其中所述溶剂的浓度是10％(wt/wt)-60％(wt/wt)。

22.权利要求21的漆制剂，其中所述溶剂的浓度是10％(wt/wt)-45％(wt/wt)。

23.一种涂漆的金属制品，其包含：

包含钢或者高温合金的金属层；和

提供在所述的金属层表面上的漆层，所述漆层包含：

颜料黑26；

无机粘合剂；

硼基玻璃添加剂；和

无机填料，

其中，所述无机粘合剂是这样的类型，即，其在漆层固化之前是有机粘合剂，所述的固化将所述有机粘合剂不可逆地转化成所述的无机粘合剂；所述有机粘合剂为苯基甲基聚硅氧烷树脂粘合剂；

所述颜料黑26在所述漆层中的浓度是5％(wt/wt)-12％(wt/wt)。