[实用新型]清洗兆声波换能器的装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及设备清洗领域，特别涉及一种清洗兆声波换能器的装置。 

背景技术

兆声波换能器具有很多优点，被广泛用于半导体领域清洗设备中。在清洗过程中，兆声波换能器的工作面与晶片表面的距离很小（约为1~3mm），导致晶片表面的颗粒物质极易附着在兆声波换能器的底面及底部侧面。一个工作行程结束后，需要对其工作面进行冲洗，以免影响后续的清洗，进而保证下一晶片的清洗质量。现有技术中采用简单水槽对兆声波换能器进行清洗，这种方法效率低，清洗速度慢，清洗质量差。 

实用新型内容

（一）要解决的技术问题 

本实用新型要解决的技术问题是：如何提供一种清洗兆声波换能器的装置使得对兆声波换能器的清洗速度快，清洗质量好。 

（二）技术方案 

为解决上述技术问题，本实用新型提供了一种清洗兆声波换能器的装置，该装置包括清洗槽（1）、挡流板（6）和隔流板（8），所述清洗槽的两侧面对应设置有液体入口（2）和液体出口（3），所述挡流板设置在清洗槽内液体入口前，所述挡流板底部设置多个排流孔（7），所述隔流板设置在清洗槽内液体出口前，所述隔流板底部与清洗槽底面（5）间存在间隙，所述隔流板上设置有用于排出清洗槽中过多液体的孔。 

优选的，所述清洗槽为四边形槽式结构。 

优选的，所述清洗槽底面由液体入口侧向液体出口侧倾斜。 

优选的，所述液体出口大于或等于液体入口。 

优选的，所述多个排流孔沿挡流板底部横向均匀分布。 

优选的，所述挡流板上部与清洗槽液体入口侧面连接，挡流板底部与清洗槽底面接触，挡流板下部与清洗槽液体入口侧面之间存在间隙。 

优选的，所述液体入口侧面设置有气体入口（4）。 

优选的，所述隔流板底部间隙的截面积小于或等于挡流板底端排流孔面积之和。 

优选的，所述隔流板上用于排出清洗槽中过多液体的孔的位置根据兆声波换能器的位置确定。 

优选的，所述清洗槽的尺寸与兆声波换能器的尺寸相适应。 

（三）有益效果 

采用本实用新型清洗兆声波换能器的装置能够快速的对兆声波换能器进行机械化清洗，清洗效率高，清洗均匀全面，清洗效果好。 

附图说明

图1是本实用新型实施例清洗兆声波换能器的装置清洗槽的立体图。 

图2是本实用新型实施例清洗兆声波换能器的装置挡流板的立体图。 

图3是本实用新型实施例清洗兆声波换能器的装置隔流板的立体图。 

图4是本实用新型实施例清洗兆声波换能器的装置的侧视图。 

图5是本实用新型实施例清洗兆声波换能器的装置的工作示意图。 

具体实施方式

下面结合附图和实施例，对本实用新型的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本实用新型，但不用来限制本实用新型的范围。 

本实用新型实施例中采用槽式装置清洗兆声波换能器，该清洗装置包括清洗槽、挡流板和隔流板，挡流板和隔流板分别布置在清洗槽中液体入口侧和液体出口侧。清洗液体快速流过兆声波换能器使其得以清洗，此处清洗液体可以是纯水。 

清洗槽为四边形槽式结构，在清洗槽的一侧及其对侧开设液体入口和液体出口，且使液体出口大于液体入口。为使液体顺利流动，清洗槽的底面由液体入口侧向液体出口侧倾斜一定角度。布置挡流板，使得其下端与清洗槽底面接触，其下部内侧面与清洗槽液体入口侧面存在一定间隙（大约几个毫米），其上部侧面与清洗槽液体入口侧面接触。挡流板平行于液体入口侧面，且与清洗槽的宽度相等。在挡流板底端，沿着垂直于液体进、出口方向，布置多个排流孔。这样，进入清洗槽的液体经清洗槽侧面和挡流板之间的间隙，由挡流板底端的排流孔流过。挡流板上排流孔使得液体在清洗槽宽度方向较均匀分布，避免兆声波换能器边缘清洗不佳。另外，为使液体快速流动，在清洗槽液体入口的上方布置气体入口，由此进入的气体压力可以加速液体流动。 

如图1所示，液体入口2、气体入口4和液体出口3处可以连接接头及供液、气装置。底面5为倾斜面，由液体入口端向液体出口端倾斜。 

如图2所示，在挡流板6接近下端面沿宽度方向处布置有多个排流孔7。 

将隔流板固定在距离清洗槽液体出口侧一定距离的位置，隔流板与清洗槽宽度相同，其底端面与清洗槽底面保持一间隙，该间隙的 截面积小于或等于挡流板底端小孔面积之和。在隔流板上部合适的位置开有较大的孔，用于清洗槽中液体积聚较多时的排放，该位置根据兆声波换能器的位置确定。 

如图3所示，隔流板8上部的孔用于槽中液体较多时排流。