[实用新型]一种周转箱箱壁结构有效

专利信息
申请号: 201220637179.8 申请日: 2012-11-28
公开(公告)号: CN203047662U 公开(公告)日: 2013-07-10
发明(设计)人: 王忠 申请(专利权)人: 苏州良才物流科技股份有限公司
主分类号: B65D6/34 分类号: B65D6/34;B65D25/28;B65D6/24
代理公司: 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 代理人: 马明渡
地址: 215122 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 周转 箱箱壁 结构
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及周转箱,尤其涉及周转箱的箱壁结构。

背景技术

在商品的批发、零售过程中,需要使用周转箱,以便于商品的运输、周转和存放。周转箱由上盖、下底以及设置在上盖和下底之间的箱壁组成,传统的周转箱箱壁上大都设置有加强筋以增加其强度,从而造成箱壁的厚度增加,重量增大,且相同外形尺寸下可使用的容积减少,而当这样的箱壁用于折叠周转箱时,导致折叠周转箱折叠后的体积较大,折叠收纳时占据空间。于是,如何克服上述不足成为本实用新型的研究课题。

发明内容

本实用新型提供一种周转箱箱壁结构,其目的在于减小周转箱箱壁厚度及其重量,降低材料用量并增大容积。

为达到上述目的,本实用新型采用的技术方案是:一种周转箱箱壁结构,所述周转箱由上盖、下底以及箱壁组成,以此在上盖、箱壁和下底之间形成一容置空间,所述上盖和下底平行布置,所述箱壁垂直于上盖和下底,所述箱壁沿周转箱的周向呈凹凸交替的起伏状,相邻的凹部和凸部之间的交接边垂直于所述上盖和下底。

上述技术方案中的有关内容解释如下:

1、上述方案中,所述箱壁的上边沿和下边沿为平整的条状结构,所述凹凸交替的起伏位于上边沿和下边沿之间,且箱壁一侧的凹部作为另一侧的凸部,一侧的凸部则作为另一侧的凹部,所述上边沿即箱壁与上盖接触的边沿,所述下边沿即箱壁与下底接触的边沿。

2、上述方案中,所述箱壁的承载截面呈正弦波形、矩形波形、梯形波形或三角波形,所述承载截面指的是箱壁朝向上盖和下底的截面。 

3、上述方案中,至少两个相对的所述箱壁上开设有用于握提的通孔。

4、上述方案中,所述凹部和凸部的宽度可以相同也可以不同,各凹部的宽度可以相同也可以不同,各凸部的宽度可以相同也可以不同。

5、上述方案中,箱壁凹凸交替的起伏结构增加了箱壁承载截面的承载面积,提高了强度,缩小了壁厚,减轻了重量。

本实用新型工作原理及优点:

本实用新型将箱壁设置成凹凸交替的起伏状,从而取代了现有技术箱壁上的加强筋,增加了箱壁承载截面的承载面积,从而提高了周转箱箱壁的强度,缩小了箱壁的厚度,减少了材料用量,减轻了周转箱的整体重量,增大了周转箱的容积。当该箱壁用于折叠周转箱时,可节省其折叠收纳状态下的占用空间。

附图说明

附图1为本实用新型实施例周转箱立体图;

附图2为本实用新型实施例周转箱立体爆炸图;

附图3为本实用新型实施例箱壁承载截面示意图;

附图4为本实用新型第二种箱壁承载截面示意图;

附图5为本实用新型第三种箱壁承载截面示意图。

以上附图中:1、上盖;2、下底;3、箱壁;4、下边沿;5、上边沿;6、凹部;7、凸部。

具体实施方式

下面结合附图及实施例对本实用新型作进一步描述:

实施例:一种周转箱箱壁结构

参见附图1~附图3所示,所述周转箱由上盖1、下底2以及箱壁3组成,以此在上盖1、箱壁3和下底2之间形成一容置空间,所述上盖1和下底2平行布置,所述箱壁3垂直于上盖1和下底2。

所述箱壁3沿其周向呈凹凸交替的起伏状,相邻的凹部6和凸部7之间的交接边垂直于所述上盖1和下底2,且箱壁3一侧的凹部6作为另一侧的凸部7,一侧的凸部7则作为另一侧的凹部6,箱壁3的承载截面呈梯形波形。

所述箱壁3的上边沿5和下边沿4为平整的条状结构,所述凹凸交替的起伏位于上边沿5和下边沿4之间。

两个相对的所述箱壁3上开设有用于握提的通孔。

所述凹部和凸部的宽度可以相同也可以不同,各凹部的宽度可以相同也可以不同,各凸部的宽度可以相同也可以不同。

上述实施例中,所述箱壁3的承载截面呈梯形波形,而在实际应用中,若采用正弦波形、矩形波形、三角波形或其他类似于电磁波波普的形状也可达到相同效果。

本实用新型将箱壁3设置成凹凸交替的起伏状,从而取代了现有技术箱壁3上的加强筋,增加了箱壁3承载截面的承载面积,从而提高了周转箱箱壁3的强度,缩小了箱壁3的厚度,减少了材料用量,减轻了周转箱的整体重量,增大了周转箱的容积。当该箱壁用于折叠周转箱时,可节省其折叠收纳状态下的占用空间。

上述实施例只为说明本实用新型的技术构思及特点,其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本实用新型的内容并据以实施,并不能以此限制本实用新型的保护范围。凡根据本实用新型精神实质所作的等效变化或修饰,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

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