[实用新型]具有多层膜反射结构的触摸屏

说明书

技术领域

本实用新型涉及触摸领域技术，尤其是指一种具有多层膜反射结构的触摸屏。

背景技术

如图1所示，传统触摸屏包括玻璃基板10′、白色遮蔽层20′、灰色遮蔽层30′、金属连接线40′和导电感应层50′。这种多层膜反射结构在使用白色遮蔽层20′时，会面临光学密度(OD)不足、白度不够白等问题。若提高白色遮蔽层20′厚度或重复多层涂上白色遮蔽层20′以达到合适之遮光度及白度，则会面临后续导电感应层50′制程跨越高厚度白色遮蔽层20′时，易发生导电感应层50′断裂的问题。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型针对现有技术存在之缺失，其主要目的是提供一种具有多层膜反射结构的触摸屏，其解决导电感应层断裂的问题，使多层饰材不局限于黑色，白色甚至其它颜色材料都可以设计生产，从而克服现有技术的不足。

为实现上述目的，本实用新型采用如下之技术方案：

一种具有多层膜反射结构的触摸屏，包括玻璃基板、金属连接线和导电感应层，其特征在于：该玻璃基板的表面设置有遮蔽层，且该遮蔽层表面上镀有一高反射层，该金属连接线设于该高反射层上。

优选的，所述高反射层是采用多层高折射率薄膜与多层低折射率薄膜间隔堆叠形成的堆叠结构。

优选的，所述堆叠结构的厚度为1um～2um。

优选的，所述高折射率薄膜为五氧化二铌薄膜，所述低折射率薄膜为二氧化硅薄膜。

优选的，所述遮蔽层为有色或无色干膜层、光阻层或油墨层。

优选的，所述遮蔽层的厚度为5um。

本实用新型与现有技术相比具有明显的优点和有益效果，具体而言，由上述技术方案可知，其主要是以溅镀方式镀上高反射层，使光线透过遮蔽层后反射出明亮的白色，在高反射率低透光率的情况下，可完整遮蔽后方之金属连接线，从而遮蔽层的材料不局限于黑色，白色甚至其它颜色材料都可以设计生产。

另外，因使用薄膜溅射方式，高折射率薄膜和低折射率薄膜形成的堆叠总厚度将不超过2um，使得导电感应层在跨接时，不易产生断线，进一步解决导电感应层断裂的问题。

为更清楚地阐述本实用新型的结构特征和功效，下面结合附图与具体实施例来对本实用新型进行详细说明。

附图说明

图1是传统之传统触摸屏结构示意图；

图2是本实用新型之具有多层膜反射结构的触摸屏结构示意图。

附图标识说明：

10′、玻璃基板        20′、白色遮蔽层

30′、灰色遮蔽层    40′、金属连接线

50′、导电感应层

10、玻璃基板        20、遮蔽层

30、金属连接线      40、导电感应层

50、高反射层        51、高折射率薄膜

52、低折射率薄膜。

具体实施方式

请参照图2所示，其显示出了本实用新型之较佳实施例的具体结构，包括有玻璃基板10、遮蔽层20、金属连接线30、导电感应层40和高反射层50，该玻璃基板10位于产品的最底层，该遮蔽层20设置在玻璃基板10的上表面，该高反射层50是以溅镀方式镀在遮蔽层20的表面上，金属连接线30设置在高反射层50上，导电感应层40台阶式地跨接在玻璃基板10、遮蔽层20、金属连接线30和高反射层50之间。

其中，该遮蔽层20为有色或无色干膜层、光阻层或油墨层，且遮蔽层20的厚度为5um。该高反射层50的可见光波长反射率大于97％，使光线透过遮蔽层20后反射出明亮的白色，在高反射率低透光率的情况下，可完整遮蔽后方金属连接线30。

高反射层50的成膜方式是使用多层高折射率薄膜51与低折射率薄膜52作堆叠溅渡，本实施例中，高折射率薄膜51采用五氧化二铌(Nb2O5)，低折射率薄膜52采用二氧化硅(SiO2)。为了更形象地表达高折射率薄膜51与低折射率薄膜52的堆叠结构，可假设高折射率薄膜51的代号为H，低折射率薄膜52的代号为L，即HLHLHLH....LH的方式，依nd＝1/4λ的基本光学原理，设计不同的成膜厚度使得可见光全波长(400nm～700nm)下反射率接近99％。

因使用薄膜溅射方式，高折射率薄膜51和低折射率薄膜52形成的堆叠总厚度将不超过2um，一般情况下堆叠总厚度在1um～2um，使得导电感应层40在跨接时，不易产生断裂的问题。