[实用新型]自清洁防雾元件有效

专利信息
申请号: 201220014068.1 申请日: 2012-01-13
公开(公告)号: CN202463012U 公开(公告)日: 2012-10-03
发明(设计)人: 郭射宇;李洪美 申请(专利权)人: 苏州羿日新能源有限公司
主分类号: B32B3/24 分类号: B32B3/24;B32B17/06;B32B9/04;B32B33/00;C03C17/34
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215200 江苏省吴江市经*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 清洁 元件
【权利要求书】:

1.一种自清洁防雾元件,它包含

透光的基底材料;

透光的阻挡膜,形成在所述基底材料的一侧表面上;

光催化底膜,形成在所述阻挡膜上,其特征在于:所述光催化底膜具有多孔结构,且所述光催化底膜的孔体积对膜总体积比为5~25%;所述光催化底膜上还形成有光催化硬膜,所述的光催化硬膜也具有多孔结构,且光催化硬膜的孔体积对膜总体积比小于5%。

2.根据权利要求1所述的自清洁防雾元件,其特征在于:所述的基底材料为玻璃。

3.根据权利要求2所述的自清洁防雾元件,其特征在于:所述的光催化底膜的硬度小于等于4H,所述的光催化硬膜的硬度大于等于6H。

4.根据权利要求1所述的自清洁防雾元件,其特征在于:所述的光催化底膜为TiO2或ZnO或SnO2薄膜。

5.根据权利要求1所述的自清洁防雾元件,其特征在于:所述的光催化硬膜为TiO2或ZnO或SnO2薄膜。

6.根据权利要求1所述的自清洁防雾元件,其特征在于:所述的光催化底膜的厚度为10~50nm。

7.根据权利要求1所述的自清洁防雾元件,其特征在于:所述的光催化硬膜的厚度为50~200nm。

8.根据权利要求1所述的自清洁防雾元件,其特征在于:所述的基底材料为塑料薄膜。

9.根据权利要求8所述的自清洁防雾元件,其特征在于:所述的基底材料为PET薄膜或PMMA或PC材料。

10.根据权利要求9所述的自清洁防雾元件,其特征在于:所述的基底材料上与所述阻挡膜相对的另一侧表面上设有粘结层。

11.根据权利要求8所述的自清洁防雾元件,其特征在于:所述的光催化底膜的硬度小于等于2H,所述的光催化硬膜的硬度大于等于3H。

12.根据权利要求1所述的自清洁防雾元件,其特征在于:它包含多层所述的光催化底膜和光催化硬膜,多层所述的光催化底膜和光催化硬膜交替排布。

13.根据权利要求1所述的自清洁防雾元件,其特征在于:所述的光催化硬膜上还形成有具有多孔结构且呈亲水性的透明亲水膜,所述亲水膜为多孔SiO2膜。

14.根据权利要求13所述的自清洁防雾元件,其特征在于:所述的亲水膜的厚度为10~50nm。

15.根据权利要求1所述的自清洁防雾元件,其特征在于:所述的阻挡膜为SiO2或Cr2O3,或Si3N4或Al2O3薄膜。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州羿日新能源有限公司,未经苏州羿日新能源有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201220014068.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top