[发明专利]用于激光加工具有陶瓷层的层系统的方法无效
| 申请号: | 201210548300.4 | 申请日: | 2012-12-17 |
| 公开(公告)号: | CN103157907A | 公开(公告)日: | 2013-06-19 |
| 发明(设计)人: | 斯特凡·沃纳·希利阿尼;弗朗西斯-茹尔延·拉德鲁 | 申请(专利权)人: | 西门子公司 |
| 主分类号: | B23K26/38 | 分类号: | B23K26/38 |
| 代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 张春水;田军锋 |
| 地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 激光 加工 具有 陶瓷 系统 方法 | ||
1.用于激光加工层系统(1、120、130、155)的方法,其中所述层系统(1,120,130,155)具有至少一个金属基底(4)和外部的陶瓷层(7),其中,在对所述构件(1,120,130,155)执行完整的激光加工,尤其制造多个贯通孔,更尤其是制造具有附加的扩散部的贯通孔之后,在后处理步骤中降低所述层(7)的层厚度(d)。
2.根据权利要求1所述的方法,其中应用激光方法来减小所述层(7)的所述层厚度(d)。
3.根据权利要求1或者2中的一项或者两项所述的方法,其中使用磨光方法来减小所述层(7)的所述层厚度(d)。
4.根据权利要求1、2或3中的一项或多项所述的方法,其中将所述层(7)的所述层厚度(d)降低30μm至80μm。
5.根据权利要求1至4中的一项或多项所述的方法,其中对于所述层系统(1,120,130,155)的所述激光加工而言,对所述陶瓷层(7)不使用掩模。
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