[发明专利]一种控制离子注入均匀分布的方法有效
| 申请号： | 201210442577.9 | 申请日： | 2012-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN103794452A | 公开（公告）日： | 2014-05-14 |
| 发明（设计）人： | 吴巧艳 | 申请（专利权）人： | 北京中科信电子装备有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317;H01J37/147 |
| 代理公司： | 长沙正奇专利事务所有限责任公司 43113 | 代理人： | 马强 |
| 地址： | 101111 北京市通*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 控制 离子 注入 均匀分布 方法 | ||
1.一种用于精确控制离子注入分布均匀的系统包括：多线圈调节磁铁、多级调节磁极、移动法拉第杯、采样法拉第杯、直线电机和PMAC运动控制系统。
2.如权利要求1所述的一种用于精确控制离子注入分布均匀的系统，其特征在于：安装在宽束平行透镜入口的多线圈调节磁铁和安装在宽束平行透镜出口的多级调节磁极配合，调节宽带束的均匀性和平行度。其中多线圈调节磁铁通过调节每组线圈的电流状态，改变束流通过区域的磁场分布，进而改变束流通过调节区域后的角度分布；多级调节磁极通过各电机调节各电极的垂直位置，改变与对称磁极之间的极距，调节局部的磁场强度，最终改变穿过该区域的离子束的偏转角度以调节宽带束的平行度参数。
3.如权利要求1所述的一种用于精确控制离子注入分布均匀的系统，其特征在于：移动法拉第杯和采样法拉第杯通过同轴电缆与PMAC运动控制系统相连。其中采样法拉第杯用于采集束流值，配合多线圈调节磁铁及多级调节磁极完成平行度与均匀性检测；移动法拉第杯用于采集束流值并进行宽带束的平行度与水平方向均匀性校正。
4.如权利要求1所述的一种用于精确控制离子注入分布均匀的系统，其特征在于：直线电机是运动部分执行部件。控制束流采集计算后，控制改变直线电机上下往返运动垂直扫描速度，以达到垂直方向的均匀性。
5.如权利要求1所述的一种用于精确控制离子注入分布均匀的系统，其特征在于：PMAC运动控制器进行束流采集转换并且完成核心算法处理，控制执行机构完成均匀性校正。
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