[发明专利]阵列基板及其制作和维修方法、显示装置在审

专利信息
申请号: 201210430745.2 申请日: 2012-11-01
公开(公告)号: CN102931189A 公开(公告)日: 2013-02-13
发明(设计)人: 张明;蔡振飞;贾丕健;郝昭慧;尹雄宣 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L21/77;G02F1/1343;G02F1/1345;G02F1/1362;G02F1/1368
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 罗建民;陈源
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 阵列 及其 制作 维修 方法 显示装置
【权利要求书】:

1.一种阵列基板,包括引线和像素电极,所述引线和像素电极之间具有绝缘层,其特征在于,所述像素电极与引线分隔设置且所述像素电极与引线之间能够导通。

2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述绝缘层上设置有通孔,所述像素电极设置在绝缘层上未设置有通孔处,以使得所述像素电极与引线能够通过在所述通孔中设置导电材料导通。

3.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述绝缘层上设置有通孔,所述阵列基板还包括设置在所述通孔中的连通层,所述像素电极设置在绝缘层上未设置有通孔处,且所述连通层与像素电极分隔设置,以使得所述像素电极与引线能够通过在所述连通层与像素电极的分隔处设置导电材料导通。

4.根据权利要求2或3所述的阵列基板,其特征在于,所述通孔侧壁与通孔底面的夹角为钝角。

5.根据权利要求4所述的阵列基板,其特征在于,所述通孔侧壁与通孔底面的夹角为110°~120°。

6.根据权利要求1-3中任一项所述的阵列基板,其特征在于,

所述阵列基板应用的显示面板为常黑模式,所述引线为公共电极线或公共电极;

或者,所述阵列基板应用的显示面板为常白模式,所述引线为栅线。

7.根据权利要求1-3中任一项所述的阵列基板,其特征在于,

所述绝缘层包括栅极绝缘层和钝化层,所述钝化层设置在像素电极与栅极绝缘层之间;

或者,所述绝缘层为栅极绝缘层。

8.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求1-7中任一项所述的阵列基板。

9.一种阵列基板的维修方法,其特征在于,包括如下步骤:

A.在权利要求1-7中任一项所述的阵列基板中具有亮点像素瑕疵的像素区域设置导电材料,以使得所述阵列基板中具有亮点像素瑕疵的像素区域所对应的像素电极与引线之间能够经所述导电材料导通。

10.根据权利要求9所述的方法,其特征在于,

所述步骤A之前还包括如下步骤:

A-1.切断所述具有亮点像素瑕疵的像素区域中薄膜晶体管的源极;

或者,A-2.切断所述具有亮点像素瑕疵的像素区域中薄膜晶体管的漏极;

或者,A-3.分别切断所述具有亮点像素瑕疵的像素区域中薄膜晶体管的源极和漏极;

或者,A-4.切断所述具有亮点像素瑕疵的像素区域中薄膜晶体管的漏极与该像素区域对应的像素电极之间的连接。

11.一种阵列基板的制作方法,其特征在于,包括:在基板上形成包括位于不同层的引线图形和像素电极图形的步骤;所述引线图形和像素电极图形之间具有绝缘层;

所述像素电极图形与所述引线图形分隔设置且所述像素电极与引线之间能够导通。

12.根据权利要求11所述的制作方法,其特征在于,

在所述绝缘层上形成通孔;

所述像素电极图形形成在绝缘层上未设置有通孔处,以使得所述像素电极与引线能够通过在所述通孔中设置导电材料导通;

或者,

在所述绝缘层的通孔中形成连通层图形,所述像素电极图形形成在绝缘层上未设置有通孔处,并使得所述像素电极与连通层分隔设置,以使得所述像素电极与引线能够通过在所述连通层与像素电极的分隔处设置导电材料导通。

13.根据权利要求12所述的制作方法,其特征在于,

所述像素电极图形与连通层图形在同一次构图工艺中形成;所述像素电极与连通层采用相同材料。

14.根据权利要求12或13所述的制作方法,其特征在于,所述通孔的侧壁与通孔底面的夹角为钝角。

15.根据权利要求14所述的制作方法,其特征在于,所述通孔的侧壁与通孔底面的夹角为110°~120°。

16.根据权利要求11-15中任一项所述的制作方法,其特征在于,

所述阵列基板应用的显示面板为常黑模式,所述引线为公共电极线或公共电极;

或者,所述阵列基板应用的显示面板为常白模式,所述引线为栅线。

17.根据权利要求11-15中任一项所述的制作方法,其特征在于,

所述绝缘层包括栅极绝缘层和钝化层;

在所述引线图形上形成栅极绝缘层图形,在所述栅极绝缘层图形上形成钝化层图形;

或者,所述绝缘层为栅极绝缘层。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210430745.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top