[发明专利]在多孔基底材料上制备高致密度金属氧化物薄膜的方法无效
| 申请号: | 201210430697.7 | 申请日: | 2012-11-01 |
| 公开(公告)号: | CN102888599A | 公开(公告)日: | 2013-01-23 |
| 发明(设计)人: | 朱星宝;刘美林;关成志;吕喆;魏波;黄喜强;张耀辉;苏文辉;甄良 | 申请(专利权)人: | 哈尔滨工业大学 |
| 主分类号: | C23C20/08 | 分类号: | C23C20/08 |
| 代理公司: | 哈尔滨市松花江专利商标事务所 23109 | 代理人: | 金永焕 |
| 地址: | 150001 黑龙*** | 国省代码: | 黑龙江;23 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 多孔 基底 材料 制备 致密 金属 氧化物 薄膜 方法 | ||
1.在多孔基底材料上制备高致密度金属氧化物薄膜的方法,其特征在于在多孔基底材料上制备高致密度金属氧化物薄膜的方法,具体是按以下步骤完成的:
一、将多孔基底材料浸渍在前驱体溶液中,得到覆盖多孔基底材料的一层前驱体溶液;
二、在25℃~80℃的温度和60%~85%的空气湿度的条件下,对步骤一得到的覆盖多孔基底材料的一层前驱体溶液在100kV/m~1000kV/m的静电场下挥发溶剂,持续时间为10min~100min,得到经电场处理的覆盖多孔基底材料的前驱体沉积层;
三、将步骤二得到的经电场处理的覆盖多孔基底材料的前驱体沉积层,在700℃~1500℃的温度条件下,烧结60min~120min,即完成了在多孔基底材料上高致密度金属氧化物薄膜的制备。
2.根据权利要求1所述的在多孔基底材料上制备高致密度金属氧化物薄膜的方法,其特征在于所述的步骤一中的前驱体溶液由溶质、溶剂、络合剂、表面活性剂和分散剂制备而成的,其中溶质为金属盐。
3.根据权利要求1或2所述的在多孔基底材料上制备高致密度金属氧化物薄膜的方法,其特征在于所述的前驱体溶液中的络合剂为甘氨酸、柠檬酸和乙二胺四乙酸中的一种或其中几种的组合物。
4.根据权利要求1或2所述的在多孔基底材料上制备高致密度金属氧化物薄膜的方法,其特征在于所述的前驱体溶液中的表面活性剂为聚乙烯醇、聚乙二醇、聚乙烯吡咯烷酮和2-甲氧基乙醇中的一种或其中几种的组合物。
5.根据权利要求1或2所述的在多孔基底材料上制备高致密度金属氧化物薄膜的方法,其特征在于所述的前驱体溶液中的分散剂为乙醇、异丙醇、正丙醇和乙二醇中的一种或其中几种的组合物。
6.根据权利要求1或2所述的在多孔基底材料上制备高致密度金属氧化物薄膜的方法,其特征在于所述的前驱体溶液中的溶剂为水、醋酸、乙醇、丙醇或乙二醇;其中所述的水为去离子水或蒸馏水。
7.根据权利要求1所述的在多孔基底材料上制备高致密度金属氧化物薄膜的方法,其特征在于所述的步骤…一中的前驱体溶液的摩尔浓度为10-5mol/L~102mol/L。
8.根据权利要求1、2或7所述的在多孔基底材料上制备高致密度金属氧化物薄膜的方法,其特征在于所述的多孔基底材料的材质为陶瓷或不锈钢。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C20-00 通过固态覆层化合物抑或覆层形成化合物悬浮液分解且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C20-02 .镀金属材料
C23C20-06 .镀金属材料以外的无机材料
C23C20-08 ..镀化合物、混合物或固溶体,例如硼化物、碳化物、氮化物
C23C20-04 ..镀金属





