[发明专利]光学成像装置在审

专利信息
申请号: 201210424595.4 申请日: 2006-06-02
公开(公告)号: CN102929104A 公开(公告)日: 2013-02-13
发明(设计)人: Y-B.P.克万 申请(专利权)人: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G03F9/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 邱军
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要:
搜索关键词: 光学 成像 装置
【权利要求书】:

1.一种光学成像装置,包括:

用来接收图案的掩模单元;

用来接收基板的基板单元;

包括一组光学元件单元的光学投影单元,所述光学投影单元用来将所述图案的图像转印到所述基板上;

成像装置第一部件,所述成像装置第一部件为所述光学元件单元的第一个的部件;

成像装置第二部件,所述成像装置第二部件与成像装置第一部件不同并且为所述光学元件单元的第二个的部件;以及

度量装置;

所述度量装置捕获所述成像装置第一部件和所述成像装置第二部件之间的空间关系,

所述度量装置包括基准结构,

所述度量装置捕获所述成像装置第一部件和所述基准结构之间的第一空间关系;

所述度量装置捕获所述成像装置第二部件和所述基准结构之间的第二空间关系;

所述度量装置利用所述第一空间关系和所述第二空间关系来确定所述成像装置第一部件和成像装置第二部件之间的空间关系。

2.如权利要求1所述的光学成像装置,其中所述成像装置第一部件为选自成像装置第一部件组的所述光学投影单元的光学元件单元的部件;

所述成像装置第一部件组由最靠近所述掩模单元的部件、最靠近所述基板单元的部件、大质量部件、大直径部件、以隔振方式支撑的部件、以3Hz到0.1Hz的支撑谐振频率支撑的部件、以漂移控制方式支撑的部件和与所述成像装置第二部件分开支撑的部件构成。

3.如权利要求1所述的光学成像装置,其中所述成像装置第一部件为光学元件。

4.如权利要求1所述的光学成像装置,其中所述成像装置第一部件为反射镜。

5.如权利要求1所述的光学成像装置,其中

所述度量装置包括与所述成像装置第一部件直接连接的第一基准元件和与所述成像装置第二部件直接连接的第二基准元件中的至少一个;

所述第一基准元件和第二基准元件中的至少一个包括基准表面,所述基准表面为反射表面和衍射表面中的至少一个。

6.如权利要求5所述的光学成像装置,其中所述基准表面为所述成像装置第一部件的表面。

7.如权利要求5所述的光学成像装置,其中,

所述光学投影单元包括一组光学元件,所述光学元件具有在将所述图案的图像转印到所述基板上的过程中协作的投影表面;

所述基准表面为下列表面中的一个:建立在其中一个投影表面上的基准表面;以及建立在其中一个所述光学元件的除了所述其中一个投影表面之外的表面上的基准表面。

8.如权利要求1所述的光学成像装置,其中,

所述光学投影单元包括一组光学元件,所述光学元件具有在将所述图案的所述图像转印到所述基板上的过程中协作的投影表面;

所述成像装置第一部件为反射镜,所述反射镜包括后部和具有反射前表面的前部,所述反射前表面为所述投影表面中的一个;

所述基准元件的至少一部分与所述后部连接。

9.如权利要求8所述的光学成像装置,其中,

所述后部包括与所述前表面相对的后表面;

所述基准元件包括基准表面,所述基准表面为反射表面和衍射表面中的至少一个;

所述后表面的至少一部分形成所述基准表面的至少一部分。

10.如权利要求1所述的光学成像装置,其中,

所述光学投影单元只包括具有在将所述图案的所述图像转印到所述基板上的过程中协作的反射投影表面的反射光学元件;

所述成像装置第一部件为所述反射光学元件中的一个。

11.如权利要求1所述的光学成像装置,其中所述成像装置第二部件为光学元件。

12.如权利要求1所述的光学成像装置,其中,

设有第一隔振装置,所述第一隔振装置具有第一端部和第二端部;

所述第一隔振装置的所述第一端部直接接触所述基准结构;

所述第一隔振装置的所述第二端部直接接触基础结构。

13.如权利要求12所述的光学成像装置,其中所述第一隔振装置具有在0.01Hz和10Hz之间的谐振频率。

14.如权利要求12所述的光学成像装置,其中所述基准结构支撑所述度量装置的至少一部分。

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