[发明专利]一种凹面闪耀光栅的设计方法无效
| 申请号： | 201210388282.8 | 申请日： | 2012-10-15 |
| 公开（公告）号： | CN102866445A | 公开（公告）日： | 2013-01-09 |
| 发明（设计）人： | 徐邦联;黄元申;卢忠荣;张大伟;倪争技;王琦;陶春先;庄松林 | 申请（专利权）人： | 上海理工大学 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 上海申汇专利代理有限公司 31001 | 代理人： | 吴宝根 |
| 地址： | 200093 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 凹面 闪耀 光栅 设计 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种凹面闪耀光栅的设计方法，对于给定半径为R的凹面基片，通过在基片上刻划设定角度和间距的刻槽，得到凹面闪耀光栅，其特征在于，所述的入射光为点光源发出的球面波，点光源位于罗兰圆上；设计刻槽面的角度，使得入射光线与所有的刻槽面保持垂直；设计刻槽的间距，使得相邻刻槽的光程差为指定波长的整数倍；利用自由曲面加工仪在凹面基片上逐条刻划出相应角度及间距的刻槽，得到所需的凹面闪耀光栅。
2.根据权利要求1所述凹面闪耀光栅的设计方法，其特征在于，所述指定波长为需要实现闪耀增强的波长。
3.根据权利要求1所述凹面闪耀光栅的设计方法，其特征在于，所述刻槽面的角度为：
其中（x,y,z）为凹面基片上的任意一点，（x1,y1,0）为位于主截面xOy上入射点坐标。
4.根据权利要求1所述凹面闪耀光栅的设计方法，其特征在于，所述第n条刻槽的位置为：
其中dn为位于主截面xOy面上入射点（x1,y1,0）到第n条刻槽的距离，(xn,yn,0)为第n条刻槽与主截面xOy的交点。
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