[发明专利]一种中性高透低辐射镀膜玻璃无效

专利信息
申请号: 201210324275.1 申请日: 2012-09-05
公开(公告)号: CN102806728A 公开(公告)日: 2012-12-05
发明(设计)人: 王茂良;顾黎明;徐峰 申请(专利权)人: 太仓耀华玻璃有限公司
主分类号: B32B17/06 分类号: B32B17/06;C03C17/36
代理公司: 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 代理人: 柏尚春
地址: 215433 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 中性 高透低 辐射 镀膜 玻璃
【说明书】:

技术领域

发明涉及玻璃领域,尤其涉及一种中性高透低辐射镀膜玻璃。

背景技术

目前,作为建筑用节能玻璃,低辐射中空玻璃已被广泛使用。但目前高透产品已经跟不上建筑镀膜的要求,特别是热学性能要求。其中影响玻璃热学性能的主要是镀膜玻璃的辐射率。同时大多数的建筑幕墙都会使用单片阳光膜作为窗间墙部分的外围护结构。在不同的观察角度条件下,窗间墙部分的镀膜玻璃颜色需要与中空低辐射镀膜玻璃颜色接近以保证建筑总体外观效果一致。

发明内容

发明目的:本发明的目的是为了解决现有技术的不足,提供一种具有中性颜色,高可见光透射率的中性高透低辐射镀膜玻璃。

技术方案:为了实现以上目的,本发明所述的一种中性高透低辐射镀膜玻璃,在玻璃原片的表面从下至上依次设置电介质层Ⅰ、金属银层、氧化锌铝或氧化钛陶瓷阻挡层和电介质层Ⅱ;其中,所述的电介质层Ⅰ为氧化钛层、氧化锌层、氮化硅层或其组合,电介质层Ⅱ为氧化钛层、氧化锌层、氮化硅层或其组合。

作为优选,所述的电介质层Ⅰ的厚度为10~100nm;金属银层Ag的厚度为2~50nm;氧化锌铝或氧化钛陶瓷阻挡层的厚度为1~50nm;电介质层Ⅱ的厚度为10~150nm。

作为优选,所述玻璃原片的厚度为4mm、5mm、6mm、8mm、10mm或12mm。

有益效果:本发明提供的中性高透低辐射镀膜玻璃,与现有技术相比具有以下优点:使用的玻璃膜层采用钛基层,同时采用氧化锌铝或氧化钛陶瓷材料作为阻挡层保护银层,从而具有高可见光透射率,中性颜色,辐射率低等优点。

附图说明

图1为本发明的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施例,进一步阐明本发明。

如图1所示的一种中性高透低辐射镀膜玻璃,在玻璃原片1的表面从下至上依次设置电介质层Ⅰ2、金属银层3、氧化钛陶瓷阻挡层4和电介质层Ⅱ5;其中,电介质层Ⅰ2为氧化钛层,电介质层Ⅱ5为氧化钛层。其中,所述的玻璃原片1的厚度为8mm,电介质层Ⅰ2的厚度为55nm(10~100nm范围内均可);金属银层3的厚度为25nm(2~50nm范围内均可);氧化钛陶瓷阻挡层4的厚度为25nm(1~50nm范围内均可);电介质层Ⅱ5的厚度为80nm(10~150nm范围内均可)。

制作上述中性高透低辐射镀膜玻璃的参数如下:

上述实施例只为说明本发明的技术构思及特点,其目的是让熟悉该技术领域的技术人员能够了解本发明的内容并据以实施,并不能以此来限制本发明的保护范围。凡根据本发明精神实质所作出的等同变换或修饰,都应涵盖在本发明的保护范围之内。

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