[发明专利]图像处理装置和方法以及程序

权利要求书

1.一种图像处理装置，包括：

变形处理单元，该变形处理单元被配置为通过根据用于将每个像素分布在具有随机不同的大小和方向的二维分布区域上的变形特性信息将输入图像中的每个像素的值分布在所述分布区域上来对所述输入图像进行变形，所述变形特性信息是用于利用对于每个像素位置而随机不同的变形特性来对所述输入图像进行变形的信息。

2.根据权利要求1所述的图像处理装置，还包括变形特性生成单元，该变形特性生成单元被配置为生成所述变形特性信息。

3.根据权利要求2所述的图像处理装置，其中，所述变形特性生成单元包括

点画变形特性生成单元，该点画变形特性生成单元被配置为利用随机图案图像和预定搜索范围生成关于点画风格的点画变形特性信息，以及

笔划变形特性生成单元，该笔划变形特性生成单元被配置为利用根据关于笔划的方向的笔划方向信息确定的搜索范围来生成关于笔划的笔划变形特性信息。

4.根据权利要求3所述的图像处理装置，其中，所述点画变形特性生成单元包括

点画坐标检测单元，该点画坐标检测单元被配置为在针对所述随机图案图像中的像素的所述预定搜索范围中来检测具有最小值或最大值的像素的坐标，以及

点画变形特性计算单元，该点画变形特性计算单元被配置为计算所述随机图案图像中的像素与由所述点画坐标检测单元检测出其坐标的像素之间的位置关系以生成所述点画变形特性信息，并且

其中，所述笔划变形特性生成单元包括

搜索范围确定单元，该搜索范围确定单元被配置为根据所述笔划方向信息确定所述搜索范围，

笔划坐标检测单元，该笔划坐标检测单元被配置为在针对如下点画图案图像中的像素的所述搜索范围中检测具有最小值或最大值的像素的坐标，所述点画图案图像包括由所述点画坐标检测单元检测出其坐标的像素，以及

笔划变形特性计算单元，该笔划变形特性计算单元被配置为计算所述点画图案图像中的像素与由所述笔划坐标检测单元检测出其坐标的像素之间的位置关系以生成所述笔划变形特性信息。

5.根据权利要求3所述的图像处理装置，还包括变形特性组合单元，该变形特性组合单元被配置为组合所述点画变形特性信息和所述笔划变形特性信息以获得合成变形特性信息，

其中，所述变形处理单元通过根据由所述变形特性组合单元获得的合成变形特性信息将所述输入图像中的每个像素的值分布在所述分布区域上来对所述输入图像进行变形。

6.根据权利要求3所述的图像处理装置，其中，所述变形处理单元包括

点画变形处理单元，该点画变形处理单元被配置为通过根据由所述点画变形特性生成单元生成的所述点画变形特性信息将所述输入图像中的每个像素的值分布在所述分布区域上来对所述输入图像进行变形以获得经变形的图像，以及

笔划变形处理单元，该笔划变形处理单元被配置为通过根据由所述笔划变形特性生成单元生成的所述笔划变形特性信息将由所述点画变形处理单元获得的经变形的图像中的每个像素的值分布在所述分布区域上，来对由所述点画变形处理单元获得的经变形的图像进行变形。

7.根据权利要求3所述的图像处理装置，还包括：

点画变形特性调整单元，该点画变形特性调整单元被配置为调整所述点画变形特性信息所表示的特性；以及

笔划变形特性调整单元，该笔划变形特性调整单元被配置为调整所述笔划变形特性信息所表示的特性。

8.根据权利要求7所述的图像处理装置，还包括选择单元，该选择单元被配置为选择所述点画变形特性信息所表示的特性被调整的程度和所述笔划变形特性信息所表示的特性被调整的程度的多种组合，

其中，所述点画变形特性调整单元和所述笔划变形特性调整单元根据用户利用所述选择单元选择的多种组合来分别调整所述点画变形特性信息所表示的特性和所述笔划变形特性信息所表示的特性。