[发明专利]光学元件、使用该光学元件的光学系统及光学装置有效
| 申请号: | 201210255977.9 | 申请日: | 2012-07-23 |
| 公开(公告)号: | CN102901996A | 公开(公告)日: | 2013-01-30 |
| 发明(设计)人: | 奥野丈晴;石松理绘 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
| 主分类号: | G02B1/11 | 分类号: | G02B1/11;B32B3/24 |
| 代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 魏小薇 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 光学 元件 使用 光学系统 装置 | ||
1.一种光学元件,具有在基板上形成的防反射膜,
其中,所述防反射膜包括:
第一层,其被形成在所述基板上;
第二层,其被形成在所述第一层上并由与所述第一层不同的材料构成;以及
第三层,其被形成在所述第二层上并由凹凸结构构成,
其中,所述第三层具有三个区域,通过连续改变所述凹凸结构的空间填充系数,所述三个区域的针对各自厚度的折射率以恒定比率改变。
2.根据权利要求1的光学元件,其中,所述第一层、所述第二层、以及所述第三层是通过湿法形成的。
3.根据权利要求1的光学元件,其中,当限定折射率的波长为550nm时,所述基板具有在从1.65到2.20的范围中的折射率,所述第一层具有在从30到70nm的范围中的厚度和在从1.52到1.82的范围中的折射率,所述第二层具有在从10到50nm的范围中的厚度和在从1.40到1.58的范围中的折射率,以及所述第三层具有在从200到300nm的范围中的厚度并且所述第三层的折射率从在1.40到1.58的范围中的值向1.0改变,以及
其中,所述三个区域从所述第二层起依次包括:
第一区域,其具有在从15至45nm的范围中的厚度和以在从4.4×10-3nm-1至12×10-3nm-1的范围中的比率改变的折射率;
第二区域,其具有在从25至75nm的范围中的厚度和以在从1.9×10-3nm-1至4.3×10-3nm-1的范围中的比率改变的折射率;以及
第三区域,其具有在从120至200nm的范围中的厚度和以在从0.9×10-3nm-1至1.8×10-3nm-1的范围中的比率改变的折射率。
4.根据权利要求3的光学元件,其中,所述第一层、所述第二层、以及所述第三层是通过湿法形成的。
5.根据权利要求1的光学元件,其中,所述第一层是有机树脂层。
6.根据权利要求1的光学元件,其中,所述第二层是主要成分为氧化铝的多孔层。
7.根据权利要求1的光学元件,其中,所述第三层由主要成分为氧化铝的板状晶体形成。
8.一种光学系统,具有至少两个或更多个光学元件,
其中,所述光学元件中的至少一个是根据权利要求1的光学元件。
9.一种具有光学系统的光学装置,
其中,所述光学系统是根据权利要求8的光学系统。
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