[发明专利]单层电容式触摸屏制作工艺及采用该触摸屏之电子设备加工方法

权利要求书

1.一种单层电容式触摸屏制作工艺，其包括以下步骤：

步骤S1：提供一玻璃基板；

步骤S2：CNC预加工该玻璃基板，在玻璃基板一侧成型终端产品外型轮廓凹槽；

步骤S3：强化该玻璃基板；

步骤S4：表面处理该玻璃基板；

步骤S5：电镀ITO导电薄膜至该玻璃基板；

步骤S6：在ITO导电薄膜上制作电极图案；

步骤S7：制作一导电线路，并于该玻璃基板一端形成电路接口端；

步骤S8：切割玻璃基板；

步骤S9：CNC磨边；及

步骤S10：粘接FPC至该玻璃基板的电路接口端。

2.如权利要求1所述的单层电容式触摸屏制作工艺，其特征在于：在步骤S2中，该凹槽加工的厚度为该玻璃基板厚度的1/4-1/2。

3.如权利要求1所述的单层电容式触摸屏制作工艺，其特征在于：在步骤S2中，该外型轮廓凹槽与待加工完成的成品外型保持一致，以1∶1的比例进行。

4.如权利要求1所述的单层电容式触摸屏制作工艺，其特征在于：在步骤S2中，当完成外型轮廓凹槽的CNC处理后即用清水或气枪进行清洗。

5.如权利要求1所述的单层电容式触摸屏制作工艺，其特征在于：在步骤S3中，在该玻璃基板送入强化炉进行强化前需要在该玻璃基板之外型轮廓凹槽处涂抹有机化学药品。

6.如权利要求1所述的单层电容式触摸屏制作工艺，其特征在于：在步骤S8中，需要将该玻璃基板翻面，即将具有凹槽的一面朝下设定，且在进行切割前的外型设定时，须比原本的外型小0.01-0.05mm。

7.如权利要求1所述的单层电容式触摸屏制作工艺，其特征在于：在步骤S6中，在ITO导电薄膜上成型多条触摸感应的电极图案，当该ITO导电薄膜为一层时，该多条触摸感应的电极图案为菱形图案或条状图案，当该ITO导电薄膜为两层时，该多条触摸感应的电极图案为网状图案。

8.如权利要求1所述的单层电容式触摸屏制作工艺，其特征在于：在步骤S7中，包括在该玻璃基板上电镀一金属层及通过蚀刻技术蚀刻该金属层成型该导电线路，并于该玻璃基板一端形成电路接口端。

9.一种采用单层电容触摸屏之电子设备加工方法，其包括一单层电容触摸屏，及一手机或是平板电脑模组，其特征在于：该采用单层电容触摸屏之电子设备加工方法包括如权利要求1至8之任意一项单层电容式触摸屏制作工艺。

10.如权利要求9所述的一种采用单层电容触摸屏之电子设备加工方法，其特征在于：其进一步包括组装该单层电容式触摸屏至该手机或是平板电脑之显示器模组的组装步骤。