[发明专利]一种有色膜及其制作方法

权利要求书

1.一种有色膜，其特征在于，包含：

基板；

粗糙金属层，所述粗糙金属层位于所述基板上，所述粗糙金属层表面具有一粗糙表面，用以降低反射率；以及，

显色层，所述显色层位于所述粗糙金属层表面，以使所述有色膜显现颜色。

2.根据权利要求1所述有色膜，其特征在于，还包含保护层，所述保护层位于所述显色层上，以保护所述显色层。

3.根据权利要求2所述有色膜，其特征在于，所述保护层的厚度范围为10nm至1000nm。

4.根据权利要求3所述有色膜，其特征在于，所述保护层的材质为硅氧化物或铝氧化物。

5.根据权利要求1所述有色膜，其特征在于，所述基板的材质为玻璃、金属、不锈钢或高分子材料。

6.根据权利要求1所述有色膜，其特征在于，所述粗糙金属层的材质为锡、锌、铟、锡合金、锌合金或铟合金。

7.根据权利要求6所述有色膜，其特征在于，所述粗糙金属层的厚度范围为5nm至1000nm。

8.根据权利要求7所述有色膜，其特征在于，所述粗糙金属层表面的平均粗糙度为0.06μm至0.25μm之间。

9.根据权利要求1所述有色膜，其特征在于，所述显色层的材质为铜、铝、银、镍、铬、锆、钛、氧化铜、氧化铝、氧化镍、氧化铬、氧化锆、氧化钛、氮化铝、氮化铬、氮化锆、氮化钛或不锈钢。

10.根据权利要求9所述有色膜，其特征在于，所述显色层的厚度范围为30nm至5500nm。

11.根据权利要求1~10任一项所述有色膜，其特征在于，所述基板与所述粗糙金属层之间具有缓冲层，用以紧密结合所述基板与所述粗糙金属层。

12.根据权利要求11所述有色膜，其特征在于，所述缓冲层的材质为镍、铬、镍合金或铬合金。

13.一种有色膜的制作方法，其特征在于，包含下列步骤：

提供一基板；

在所述基板上形成一粗糙金属层，所述粗糙金属层的表面具有粗糙度，以减少反射率；以及，

在所述粗糙金属层的表面形成一显色层，以使所述有色膜显现出颜色。

14.根据权利要求13所述有色膜的制作方法，其特征在于，所述基板的材质为玻璃、金属、不锈钢或高分子材料。

15.根据权利要求13所述有色膜的制作方法，其特征在于，所述粗糙金属层是采用沉积法形成于所述基板上；且所述粗糙金属层的材质为锡、锌、铟、锡合金、锌合金或铟合金。

16.根据权利要求15所述有色膜的制作方法，其特征在于，所述粗糙金属层表面的粗糙度为0.06μm至0.25μm。

17.根据权利要求16所述有色膜的制作方法，其特征在于，所述粗糙金属层的厚度范围为5nm至1000nm。

18.根据权利要求13所述有色膜的制作方法，其特征在于，在所述显色层上形成一保护层，以保护所述显色层。

19.根据权利要求18所述有色膜的制作方法，其特征在于，所述显色层是采用沉积法形成于所述粗糙金属层的表面；且所述显色层的材质为铜、铝、银、镍、铬、锆、钛、氧化铜、氧化铝、氧化镍、氧化铬、氧化锆、氧化钛、氮化铝、氮化铬、氮化锆、氮化钛或不锈钢。

20.根据权利要求13~19任一项所述有色膜的制作方法，其特征在于，所述基板与所述粗糙金属层之间沉积一缓冲层，用以紧密结合所述基板与所述粗糙金属层。

21.根据权利要求20所述有色膜的制作方法，其特征在于，所述缓冲层的材质为镍、铬、镍合金或铬合金。