[发明专利]低温泵系统及用于低温泵的再生方法

说明书

本申请主张基于2011年5月13日申请的日本专利申请第2011-108426号的优先权。其申请的全部内容通过参考援用于本说明书中。

技术领域

本发明涉及一种低温泵系统及用于低温泵的再生方法。

背景技术

低温泵为通过冷凝或吸附将气体分子捕捉于冷却至超低温的低温板来排气的真空泵。低温泵一般为了实现半导体电路制造工艺等中所要求的清洁的真空环境而利用。由于低温泵为所谓的气体捕集式真空泵，因此需要向外部定期排出捕捉的气体的再生。为了排出使用粗抽泵。

专利文献1：日本特表平8-507115号公报

在具有多个低温泵的真空系统中，有时几个低温泵共用粗抽泵。为了整体缩短多个低温泵的再生时间，优选并行再生它们。将粗抽泵从某一低温泵切换为另一低温泵时，一般这些低温泵的压力是不同的。

发明内容

本发明是鉴于这种情况而完成的，其某一方式的例示性目的之一在于缓和多个低温泵的压力差对再生工艺的影响。

本发明的一种形态的低温泵系统具备：多个低温泵，共用粗抽泵且分别包含粗抽阀；及控制器，为了所述多个低温泵的再生而控制各粗抽阀，在封闭已开放的粗抽阀和开放已封闭的其他粗抽阀之间设定延迟时间。

本发明的另一形态为用于多个低温泵的再生方法。该多个低温泵连接于共同的粗抽管路。该方法包含：进行第1粗抽的工序，通过所述粗抽管路对低温泵进行排气；及进行第2粗抽的工序，从所述第1粗抽经过延迟时间，通过所述粗抽管路对其他低温泵进行排气。

发明效果：

根据本发明，能够缓和多个低温泵的压力差对再生工艺的影响。

附图说明

图1是示意地表示本发明的一实施方式所涉及的低温泵系统的整体结构的图。

图2是示意地表示本发明的一实施方式所涉及的低温泵的图。

图3是用于说明本发明的一实施方式所涉及的再生方法的流程图。

图4是用于说明本发明的一实施方式所涉及的控制处理的流程图。

图中：10-低温泵，11-第1缸，12-第2缸，13-第1冷却台，14-第2冷却台，20-CP控制器，30-低温泵容器，40-放射屏蔽件，43-制冷机插通孔，50-制冷机，60-低温板，70-通气阀，72-粗抽阀，73-粗抽泵，90-粗抽管路，92-粗抽配管，100-低温泵系统。

具体实施方式

图1是示意地表示本发明的一实施方式所涉及的低温泵系统100的整体结构的图。低温泵系统100为了进行作为在真空环境下对物体进行处理的真空处理装置的真空腔室（未图示）的真空排气而使用。真空处理装置例如为在离子注入装置或溅射装置等的半导体制造工序中使用的装置。

低温泵系统100包含多台低温泵10。低温泵10安装于真空腔室内，为了将真空腔室（未图示）内部的真空度提高至所希望的工艺所需的水平而使用。例如可以在真空腔室实现10^-5Pa～10^-8Pa左右的高真空度。低温泵10具备容纳其构成要件的低温泵容器30及设置于泵容器30的粗抽阀72。参考图2对一实施例所涉及的低温泵10的结构的详细内容进行后述。

低温泵系统100具备低温泵控制器（以下还称CP控制器）20。CP控制器20控制低温泵10。即，低温泵10随着CP控制器20所决定的控制指令运转。CP控制器20还控制粗抽阀72的开闭。

CP控制器20具备执行各种运算处理的CPU、储存各种控制程序的ROM、作为用于储存数据或执行程序的作业区而利用的RAM、输入输出界面、储存器等。并且，CP控制器20构成为还能够与用于控制真空处理装置的主控制器（未图示）通信。CP控制器20与低温泵10分体或者一体地构成。图1中，用虚线表示低温泵10与CP控制器20的控制通信线。

设置有用于对低温泵10进行粗抽的粗抽管路90。可以由低温泵系统100包括粗抽管路90，也可以由通过低温泵系统100排气的真空处理装置包括粗抽管路90。粗抽管路90可以为用于进行低温泵系统100和/或真空处理装置的真空排气的真空排气系统的一部分。该真空排气系统可包括低温泵系统100。

粗抽管路90为了进行多个低温泵10的粗抽而设置。多个低温泵10连接于共同的粗抽管路90。粗抽管路90包括粗抽泵73和粗抽配管92。粗抽泵73共同设置于多个低温泵10，多个低温泵10共用粗抽泵73。可以设置2台以上的粗抽泵73，这些粗抽泵共用于多个低温泵10。粗抽泵73可以连接于真空处理装置的真空腔室，为了进行该真空腔室的排气而使用。