[发明专利]一种仿蚊子嘴空心微针阵列的制作方法无效
| 申请号： | 201210057371.4 | 申请日： | 2012-03-06 |
| 公开（公告）号： | CN102530848A | 公开（公告）日： | 2012-07-04 |
| 发明（设计）人： | 邹赫麟;张水平;刘冲 | 申请（专利权）人： | 大连理工大学 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00 |
| 代理公司： | 大连理工大学专利中心 21200 | 代理人： | 关慧贞;梅洪玉 |
| 地址： | 116024*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 蚊子 空心 阵列 制作方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种仿蚊子嘴空心微针阵列的制作工艺，其特征在于如下步骤：
(1)第一次光刻：在硅片上生长一层二氧化硅，然后在硅片正面旋涂一层光刻胶，将针孔图形掩膜版放置在光刻胶上进行紫外线曝光，使用显影液显影，得到针孔图形，使用刻蚀机刻蚀氧化层；
(2)硅片正面刻蚀针孔：采用两步刻蚀工艺在硅片正面刻蚀针孔，刻蚀深度为硅片厚度的一半；
(3)第二次光刻：在硅片背面进行光刻得到针孔图形，并使用刻蚀机刻蚀二氧化硅层；
(4)硅片背面刻蚀针孔：采用两步刻蚀工艺在硅片背面刻蚀针孔使其完全刻穿；
(5)第三次光刻：在硅片正面使用针尖图形掩膜版光刻得到腐蚀针尖的正方形掩膜图形；
(6)湿法腐蚀：光刻完成后，去除氧化层，然后去除光刻胶，放入40％KOH溶液中湿法腐蚀，直到微针高度为100μm，停止腐蚀，去掉剩余氧化层，得到空心微针阵列。
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