[发明专利]一种光刻胶清洗液

权利要求书

1.一种光刻胶清洗液，其包含：

醇胺，

四氢糠醇，

以及苯并三氮唑和/或其衍生物。

2.如权利要求1所述的清洗液，其特征在于：所述的光刻胶清洗液不含氟化物。

3.如权利要求1所述的清洗液，其特征在于：所述的光刻胶清洗液为非水性清洗液。

4.如权利要求1所述的清洗液，其特征在于：所述的光刻胶清洗液不含羟胺化合物。

5.如权利要求1-4任一项所述的清洗液，其特征在于：所述的醇胺的百分比含量为5-90wt％。

6.如权利要求5所述的清洗液，其特征在于：所述的醇胺的百分比含量为5-50wt％。

7.如权利要求1-4任一项所述的清洗液，其特征在于：所述的四氢糠醇的百分比含量为5-90wt％。

8.如权利要求7所述的清洗液，其特征在于：所述的四氢糠醇的百分比含量为5-70wt％。

9.如权利要求1-4任一项所述的清洗液，其特征在于：所述的苯并三氮唑和/或其衍生物的百分比含量为0.01-5wt％。

10.如权利要求9所述的清洗液，其特征在于：所述的苯并三氮唑和/或其衍生物的百分比含量为0.05-2wt％。

11.如权利要求1-4任一项所述的清洗液，其特征在于：所述的醇胺选自单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、正丙醇胺、异丙醇胺、2-(二乙氨基)乙醇、乙基二乙醇胺和二甘醇胺中的一种或几种。

12.如权利要求1-4任一项所述的清洗液，其特征在于：所述的苯并三氮唑和/或其衍生物选自苯并三氮唑、甲基苯并三氮唑、1-羟基苯并三氮唑、5-羧基苯并三氮唑和2，2′-[[(甲基-1H-苯并三唑-1-基)甲基]亚氨基]双乙醇中的一种或多种。

13.如权利要求1-4任一项所述的清洗液，其特征在于：所述的光刻胶清洗液还包含助溶剂。

14.如权利要求13任一项所述的清洗液，其特征在于：所述的助溶剂的百分比含量不超过80wt％。

15.如权利要求14所述的清洗液，其特征在于：所述的助溶剂选自亚砜、砜、咪唑烷酮、咪唑啉酮、吡咯烷酮、醚和酰胺溶剂中的一种或多种。

16.如权利要求15所述的清洗液，其特征在于：所述的亚砜为二甲基亚砜；所述的砜为环丁砜；所述的咪唑烷酮为1，3-二甲基-2-咪唑烷酮；所述的咪唑啉酮为1，3-二甲基-2-咪唑啉酮(DMI)；所述的吡咯烷酮为N-甲基吡咯烷酮、N-乙基吡咯烷酮和/或N-羟乙基吡咯烷酮；所述的醚为乙二醇醚和/或丙二醇醚；所述的乙二醇醚为乙二醇丁醚、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚和/或二乙二醇单丁醚；所述的丙二醇醚为丙二醇乙醚、丙二醇丁醚、二丙二醇单甲醚和/或二丙二醇单乙醚；所述的酰胺为二甲基甲酰胺和/或二甲基乙酰胺。

17.一种使用如权利要求1-16任一项所述的清洗液的清洗方法，包括：将含有光刻胶的晶片浸入所述的清洗液中，在室温至90℃下浸泡后，取出洗涤后使用高纯氮气吹干。

18.如权利要求17所述的清洗方法，其特征在于：所述浸泡时间为5-60分钟。