[发明专利]图案形成方法及图案形成设备有效
| 申请号: | 201180044646.4 | 申请日: | 2011-09-15 |
| 公开(公告)号: | CN103153486A | 公开(公告)日: | 2013-06-12 |
| 发明(设计)人: | 儿玉淳 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号: | B05D1/26 | 分类号: | B05D1/26;B05C5/00;B05C9/10;B05D3/06 |
| 代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 张伟;王英 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 图案 形成 方法 设备 | ||
1.一种图案形成方法,包括:
改性处理步骤,用于根据待形成在基体的图案形成表面上的图案,将光束施加到处理目标区域上,从而在所述处理目标区域上执行改性处理,所述光束的宽度小于构成所述图案的每个点的直径,所述处理目标区域至少包括外边缘,所述外边缘位于所述图案形成表面中的待形成所述图案的区域的在宽度方向的两侧上;以及
液滴沉积步骤,用于通过喷墨方法将功能性液体的液滴喷射并沉积到待形成所述图案的所述区域上,待形成所述图案的所述区域包括已经被执行过所述改性处理的所述处理目标区域。
2.根据权利要求1所述的图案形成方法,其中,所述基体是基板。
3.根据权利要求2所述的图案形成方法,还包括至少在以下时段之一对所述基板的温度进行调节的温度调节步骤:所述改性处理步骤期间、所述液滴沉积步骤期间、以及所述液滴沉积步骤之后。
4.根据权利要求2或3所述的图案形成方法,还包括:在所述液滴沉积步骤之后,将辅助光施加到所沉积的所述液滴上的辅助光施加步骤。
5.根据权利要求1所述的图案形成方法,其中:
所述基体是中间转印体;并且
所述方法还包括将形成在所述中间转印体上的所述图案转印到基板上的转印步骤。
6.根据权利要求5所述的图案形成方法,还包括至少在以下时段之一对基板的温度进行调节的温度调节步骤:所述转印步骤期间、以及所述转印步骤之后。
7.根据权利要求5或6所述的图案形成方法,还包括:在所述转印步骤之后,将辅助光施加到被转印的所述图案上的辅助光施加步骤。
8.根据权利要求2-7中的任一项所述的图案形成方法,还包括:
确定所述基板的扭曲的确定步骤;以及
校正数据生成步骤,用于根据所确定的所述基板的扭曲,生成用于所述光束的施加数据和用于所述液滴的沉积数据的校正数据,其中:
在所述改性处理步骤中,根据所述校正数据,将所述光束施加到所述处理目标区域上,并且
在所述液滴沉积步骤中,根据所述校正数据,通过所述喷墨方法将所述液滴喷射并沉积到已经被执行过所述改性处理的所述处理目标区域上。
9.根据权利要求1-8中的任一项所述的图案形成方法,其中,所述改性处理步骤包括将反应气体供应至被施加所述光束的所述区域的反应气体供应步骤。
10.根据权利要求1-9中的任一项所述的图案形成方法,其中,在所述改性处理步骤中,所述图案的内部被设定作为被施加所述光束的改性处理区域。
11.根据权利要求1-10中的任一项所述的图案形成方法,其中,在所述改性处理步骤中,将所具有的施加宽度不大于所述图案的全宽的1/2的所述光束施加到所述图案在所述宽度方向的两侧上的所述外边缘上。
12.根据权利要求1-11中的任一项所述的图案形成方法,其中,在所述改性处理步骤中,在包括所述图案的在所述宽度方向的两侧上的所述外边缘的外侧的所述处理目标区域上执行所述的改性处理。
13.根据权利要求1-12中的任一项所述的图案形成方法,其中,在所述改性处理步骤中,施加所具有的宽度不大于每个所述点的直径的1/10的所述光束。
14.根据权利要求1-13中的任一项所述的图案形成方法,其中,在所述改性处理步骤中,以超过所述点的所述沉积的分辨率的分辨率来施加所述光束。
15.根据权利要求1-14中的任一项所述的图案形成方法,其中,在所述改性处理步骤中,以不小于所述点的所述沉积的分辨率的10倍的分辨率来施加所述光束。
16.一种图案形成设备,包括:
改性处理装置,其被构造成根据待形成在基体的图案形成表面上的图案,将光束施加到处理目标区域上,从而在所述处理目标区域上执行改性处理,所述光束的宽度小于构成所述图案的每个点的直径,所述处理目标区域至少包括外边缘,所述外边缘位于所述图案形成表面中的待形成所述图案的区域的在宽度方向的两侧上;以及
喷墨头,其被构造成通过喷墨方法将功能性液体的液滴喷射并沉积到待形成所述图案的所述区域上,来执行液滴沉积,待形成所述图案的所述区域包括已经被执行过所述改性处理的所述处理目标区域。
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