[发明专利]氧化锆烧结体及其烧结用组合物和假烧体

权利要求书

1.一种氧化锆烧结体，其特征在于，

磨削烧成面或露出面，使在X射线衍射图中，在产生来源于立方晶的［200]峰的位置附近存在的峰的高度，相对于在产生来源于正方晶的［200]峰的位置附近存在的峰的高度的比为0.3以下的面露出后，进行了再烧成的情况下，在再烧成面的X射线衍射图中，在产生来源于立方晶的［200]峰的位置附近存在的峰的高度，相对于在产生来源于正方晶的［200]峰的位置附近存在的峰的高度的比为0.4以上。

2.根据权利要求1所述的氧化锆烧结体，其特征在于，

具有部分稳定化氧化锆作为基质相，

相对于氧化锆烧结体的质量，含有0.001质量%～1质量%的磷（P）元素，

相对于氧化锆烧结体的质量，含有3×10^-4质量%～3×10^-1质量%的硼（B）元素。

3.根据权利要求1或2所述的氧化锆烧结体，其特征在于，

在180℃、1MPa的条件下对氧化锆烧结体实施了5小时的低温劣化加速试验的情况下，在所述低温劣化加速试验后的氧化锆烧结体的表面的X射线衍射图中，在产生来源于单斜晶的［11-1]峰的位置附近存在的峰的高度，相对于在产生来源于正方晶的［111]峰的位置附近存在的峰的高度的比为1以下。

4.根据权利要求1～3的任一项所述的氧化锆烧结体，其特征在于，

在烧成面的X射线衍射图中，在产生来源于立方晶的［200]峰的位置附近存在的峰的高度，相对于在产生来源于正方晶的［200]峰的位置附近存在的峰的高度的比为0.4以上，

在距烧成面的深度为100μm以上的区域的X射线衍射图中，在产生来源于立方晶的［200]峰的位置附近存在的峰的高度，相对于在产生来源于正方晶的［200]峰的位置附近存在的峰的高度的比为0.3以下。

5.根据权利要求1～4的任一项所述的氧化锆烧结体，其特征在于，

在距所述再烧成面的深度为100μm以上的区域的X射线衍射图中，在产生来源于立方晶的［200]峰的位置附近存在的峰的高度，相对于在产生来源于正方晶的［200]峰的位置附近存在的峰的高度的比为0.3以下。

6.根据权利要求1～5的任一项所述的氧化锆烧结体，其特征在于，

根据JISR1607标准测定的断裂韧性值为8MPa·m^1/2以上，

根据JISR1601标准测定的弯曲强度为1200MPa以上。

7.根据权利要求1～6的任一项所述的氧化锆烧结体，其特征在于，

根据JISR1607标准测定的断裂韧性值为8MPa·m^1/2以上且低于9MPa·m^1/2，

根据JISR1601标准测定的弯曲强度为1700MPa以上。

8.根据权利要求1～7的任一项所述的氧化锆烧结体，其特征在于，

根据JISR1607标准测定的断裂韧性值为9MPa·m^1/2以上且低于10MPa·m^1/2，

根据JISR1601标准测定的弯曲强度为1600MPa以上。

9.根据权利要求1～8的任一项所述的氧化锆烧结体，其特征在于，

根据JISR1607标准测定的断裂韧性值为10MPa·m^1/2以上且低于12MPa·m^1/2，

根据JISR1601标准测定的弯曲强度为1200MPa以上。

10.一种氧化锆烧结体，其特征在于，具备：

权利要求1或2中所述的特征、

权利要求3或4中所述的特征、

权利要求7～9的任一项中所述的特征、和

权利要求2中所述的特征之中的、至少2项权利要求的特征。

11.根据权利要求1～10的任一项所述的氧化锆烧结体，其特征在于，

具有含有稳定化剂的部分稳定化氧化锆作为基质相，

具有从烧成面侧朝向内部侧所述稳定化剂的含有率衰减了的区域。

12.根据权利要求11所述的氧化锆烧结体，其特征在于，

所述稳定化剂的浓度梯度通过烧成而产生。