[发明专利]使用分子氟的化学气相沉积腔室清洁无效
| 申请号： | 201180028784.3 | 申请日： | 2011-08-10 |
| 公开（公告）号： | CN102958622A | 公开（公告）日： | 2013-03-06 |
| 发明（设计）人： | J-C·西高;黄应享;P·A·斯托克曼;R·霍格尔;S·彼得里 | 申请（专利权）人： | 琳德股份公司 |
| 主分类号： | B08B9/00 | 分类号： | B08B9/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 朱黎明 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 使用 分子 化学 沉积 清洁 | ||
【权利要求书】：
1.一种清洁化学气相沉积腔室的方法，该方法包括：
将分子氟引入所述腔室中；
使所述分子氟与所述腔室中不希望有的沉积物反应；以及
排除所述腔室中的气体。
2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述腔室是等离子体增强化学气相沉积腔室。
3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述清洁过程中所述腔室保持在固定的压力下。
4.如权利要求3所述的方法，其特征在于，所述固定的压力为5-9托。
5.一种清洁化学气相沉积腔室的方法，该方法包括：
将分子氟引入所述腔室中；
使所述分子氟与所述腔室中不希望有的沉积物反应；
排除所述腔室中的气体；
将氟引入所述腔室中；
在所述腔室中激发等离子体，以形成氟自由基；
使所述氟自由基与所述腔室中任何残留的不希望有的沉积物反应；以及
排除所述腔室中的气体。
6.如权利要求5所述的方法，其特征在于，所述腔室是等离子体增强化学气相沉积腔室。
7.一种清洁化学气相沉积腔室的设备，该设备包括：
沉积腔室；以及
与所述沉积腔室连接的分子氟源。
8.如权利要求7所述的设备，其特征在于，所述腔室是等离子体增强化学气相沉积腔室。
9.如权利要求7所述的设备，还包括在所述腔室中保持固定压力的装置。
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