[发明专利]耐候性背衬膜

权利要求书

1.用于光生伏打模块的不透明背衬膜，其特征在于所述背衬膜至少由气候稳定性保护层和填料组成，所述气候稳定性保护层包含至少一种聚甲基丙烯酸酯。

2.根据权利要求1的背衬膜，其特征在于所述背衬膜至少由以下物质组成：

a）包含至少一种聚甲基丙烯酸酯的气候稳定性保护层，

b）任选的粘合剂层，

c）任选的阻隔层，

d）支撑膜和

e）包含在以下层中的至少一层中的填料：保护层、双层保护层中的至少一层、粘合剂层和/或支撑膜。

3.根据权利要求1或2中任一项的背衬膜，其特征在于所述背衬膜从外到内至少由保护层、粘合剂层、阻隔层和支撑膜组成。

4.根据权利要求1-3中至少一项的背衬膜，其特征在于所述保护层是PMMA膜、PMMA-PVDF共混物膜、由PMMA和聚烯烃或聚酯的共挤出物组成的膜。

5.根据权利要求1-3中至少一项的背衬膜，其特征在于所述保护层是PMMA-聚烯烃、PMMA-PET、PMMA-PVDF双层膜或是这些双层膜之一，其中所述PMMA层是PMMA与PVDF、PET或PP的共混物。

6.根据权利要求2-5中至少一项的背衬膜，其特征在于所述阻隔层主要由无机氧化物组成，和所述支撑膜是聚酯或聚烯烃膜。

7.根据权利要求2-5中至少一项的背衬膜，其特征在于所述阻隔层是金属层，优选铝层，和所述填料包含在支撑膜中，和所述支撑膜是聚酯或聚烯烃膜。

8.根据权利要求1-7中至少一项的背衬膜，其特征在于所述填料是无机颗粒。

9.根据权利要求7或8的背衬膜，其特征在于所述填料按1wt%-30wt%的浓度包含在支撑膜中。

10.根据权利要求2-9中至少一项的背衬膜，其特征在于所述粘合剂层由熔体粘合剂形成和这种熔体粘合剂是乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、乙烯-丙烯酸酯共聚物或乙烯-甲基丙烯酸酯共聚物。

11.根据权利要求1-10中至少一项的背衬膜，其特征在于所述支撑膜具有100-400μm的厚度，所述粘合剂层具有5-50μm的厚度，所述保护层具有50-1000μm的厚度。

12.根据权利要求1-11中至少一项的背衬膜，其特征在于所述阻隔层是具有1.3-1.7的x值的SiO_x层，或是具有1.2-1.5的x值的AlO_x层，且氧化物层各自具有10-100nm的厚度。

13.根据权利要求1-11中至少一项的背衬膜，其特征在于所述阻隔层是至少一个在每种情况下具有10-100nm的厚度的金属层。

14.根据权利要求1-13中至少一项的背衬膜，其特征在于它具有至少1000V的局部放电电压和在300-1200nm的波长范围中具有小于10%的透明度。

15.制备背衬膜的方法，其特征在于

a）利用真空蒸镀或溅镀在一面或两面上以根据权利要求6的无机物涂覆聚合物膜，然后利用层合、挤出层合或挤出涂覆将它与根据权利要求3的保护层组合，其中所述三层中至少一层填充有填料，或

b）利用真空蒸镀或溅镀在一面或两面上以根据权利要求7的金属涂覆聚合物膜，然后利用层合、挤出层合或挤出涂覆将它与根据权利要求3的保护层组合，其中所述三层中至少一层填充有填料，或

c）利用真空蒸镀或溅镀在一面或两面上以根据权利要求6的无机物涂覆聚合物膜，并利用根据权利要求6的粘合剂层将这种膜与根据权利要求3的保护层接合，其中所述三层中至少一层填充有填料，或

d）利用真空蒸镀或溅镀在一面或两面上以根据权利要求7的金属涂覆聚合物膜，并利用根据权利要求6的粘合剂层将这种膜与根据权利要求3的保护层接合，其中所述三层中至少一层填充有填料，或

e）在a）或c）中提及的物理真空蒸镀中，利用电子束使硅的氧化物或铝的氧化物蒸发，或

f）在a）或c）中提及的物理真空蒸镀中，利用热使硅的氧化物或铝的氧化物蒸发。

16.根据权利要求1-14中至少一项的背衬膜在有机光生伏打器件、薄膜光生伏打器件和结晶硅模块中的用途。