[发明专利]不透射线的减压歧管、系统以及方法

权利要求书

1.一种用减压处理患者的组织部位的系统，该系统包括：

一个歧管垫，该歧管垫用于分配减压并且用于邻近该组织部位而放置；

一个密封构件，该密封构件用于覆盖该歧管垫以及患者的表皮的一部分；

一个减压源，该减压源流体连接至该歧管用于将减压提供给该歧管垫；并且

其中，该歧管垫包括：

一个歧管构件，该歧管构件具有一个外表面区域，并且进一步具有多个流动通道，以及

一种不透射线剂，该不透射线剂以足以使用射线照相术检测到的量沉积在该歧管构件上。

2.如权利要求1所述的系统，其中该歧管构件的外表面的至少80%覆盖有该不透射线剂。

3.如权利要求1或权利要求2所述的系统，其中该不透射线剂是碘。

4.如权利要求1或权利要求2所述的系统，其中该歧管构件是一种开孔泡沫并且该不透射线剂是碘。

5.如权利要求1或权利要求3或权利要求4所述的系统，其中该歧管构件的外表面区域的至少90%被该不透射线剂覆盖。

6.如权利要求1或任何以上权利要求所述的系统，其中该不透射线剂是通过物理气相沉积而沉积在该歧管构件上。

7.如权利要求1或任何以上权利要求所述的系统，进一步包括：

一个减压接口；

一个减压递送构件，该减压递送构件流体连接至该减压源以及该减压接口；并且

其中该减压接口连接至该密封构件，用于流体连接该减压递送构件和该歧管垫。

8.一种制造基本上不透射线的歧管垫的方法，该方法包括以下步骤：

提供一个歧管构件，该歧管构件包括一种聚合物泡沫并且具有一个外表面；

提供一种不透射线剂；并且

在加热容器中加热该歧管构件和该不透射线剂，从而以足以使用射线照相术检测到的量基本上涂覆该歧管构件的外表面。

9.如权利要求8所述的方法，进一步包括洗涤该歧管垫的步骤。

10.如权利要求8或权利要求9所述的方法，其中该不透射线剂包括分子碘。

11.如权利要求8或权利要求9或权利要求10所述的方法，其中对该歧管进行加热包括以在60℃至110℃范围内的一个升高的温度进行加热。

12.如权利要求8或权利要求9或权利要求10所述的方法，其中对该歧管进行加热包括以在70℃至90℃范围内的一个升高的温度进行加热。

13.如权利要求8、或权利要求9至12的任一项所述的方法，其中该加热步骤包括在大致大气压下在加热容器中加热该歧管构件和该不透射线剂。

14.如权利要求8或权利要求9或权利要求10所述的方法，其中该加热步骤包括在大致大气压下在加热容器中加热该歧管构件和该不透射线剂，并且其中以在60℃至110℃范围内的一个升高的温度加热该歧管。

15.如权利要求8或权利要求9或权利要求10所述的方法，其中该加热步骤包括在大致大气压下在加热容器中加热该歧管构件和该不透射线剂持续3至6小时，并且其中以在60℃至100℃范围内的一个升高的温度加热该歧管。

16.如权利要求8或权利要求9至15的任一项所述的方法，其中提供一个歧管构件的步骤包括提供一种含银的开孔泡沫。

17.如权利要求8或权利要求10至15的任一项所述的方法，进一步包括在加热该歧管构件之后洗涤该歧管垫的步骤，其中该歧管垫被洗涤至少2小时。

18.如权利要求8或权利要求10至16的任一项所述的方法，进一步包括以下步骤：

使该歧管垫通风；

第二次加热该歧管构件以去除任何过量的碘；并且

在第二次加热该歧管构件之后洗涤该歧管垫。