[发明专利]溅射靶-背衬板组装体无效
| 申请号: | 201180010057.4 | 申请日: | 2011-02-16 |
| 公开(公告)号: | CN102812152A | 公开(公告)日: | 2012-12-05 |
| 发明(设计)人: | 池田祐希;中村祐一郎;荒川笃俊 | 申请(专利权)人: | 吉坤日矿日石金属株式会社 |
| 主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34;B22F3/14;B22F7/08;C04B35/00;C04B35/622;C22C1/04;C22C1/05;C22C5/04;C22C19/07;C22C33/02;C22C38/00 |
| 代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 王海川;穆德骏 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 溅射 背衬板 组装 | ||
1.一种溅射靶-背衬板组装体,其特征在于,通过将以成为磁性材料溅射靶的组成的方式配合的原料粉末与背衬板一起填充到模具中并进行热压,在所述磁性材料靶粉末烧结的同时与背衬板接合而得到。
2.如权利要求1所述的溅射靶-背衬板组装体,其特征在于,所述磁性材料靶为在金属相中微细分散有选自碳、氧化物、氮化物、碳化物和碳氮化物中的一种以上无机物材料的材料。
3.如权利要求1或2所述的溅射靶-背衬板组装体,其特征在于,所述磁性材料靶含有18摩尔%以下的Cr和/或25摩尔%以下的Pt,其余包含Co和不可避免的杂质。
4.如权利要求1或2所述的溅射靶-背衬板组装体,其特征在于,所述磁性材料靶含有18摩尔%以下的Cr和/或45摩尔%以下的Pt,其余包含Fe和不可避免的杂质。
5.如权利要求4所述的溅射靶-背衬板组装体,其特征在于,所述磁性材料靶进一步含有总计12摩尔%以下的选自Ru、Ti、Ta、Si、B和C中的一种以上元素。
6.如权利要求4或5所述的溅射靶-背衬板组装体,其特征在于,所述磁性材料靶进一步含有总计5~15摩尔%的选自Si、Ti、Ta、Co、Cr和B中的一种以上元素的氧化物、氮化物、碳化物或碳氮化物、或者碳。
7.如权利要求1至6中任一项所述的溅射靶-背衬板组装体,其特征在于,背衬板具有比靶的磁导率低的磁导率。
8.如权利要求1至7中任一项所述的溅射靶-背衬板组装体,其特征在于,背衬板是包含磁导率为1.0以下的非磁性材料的背衬板。
9.如权利要求1至8中任一项所述的溅射靶-背衬板组装体,其特征在于,背衬板仅仅为金属相、或者为在该金属相中微细分散有选自碳、氧化物、氮化物、碳化物和碳氮化物中的一种以上无机物材料的非磁性体。
10.如权利要求9所述的溅射靶-背衬板组装体,其特征在于,背衬板的金属相含有Co,并且含有选自Cr、Ti、Ta、Si、B和C中的一种以上元素。
11.如权利要求9或10所述的溅射靶-背衬板组装体,其特征在于,在背衬板的金属相中分散的所述无机物材料为包含选自Si、Ti、Ta、Co、Cr和B中的至少一种以上元素的氧化物、氮化物、碳化物或碳氮化物、或者为碳。
12.如权利要求1至11中任一项所述的溅射靶-背衬板组装体,其特征在于,背衬板含有19~40摩尔%的Cr,总计5~15摩尔%的选自Si、Ti、Ta、Co、Cr和B中的一种以上元素的氧化物、氮化物、碳化物或碳氮化物、或者碳,其余为Co和不可避免的杂质。
13.如权利要求1至12中任一项所述的溅射靶-背衬板组装体,其特征在于,背衬板与磁性材料靶的线性膨胀率之差在从室温至1000℃之间最大为0.5以内。
14.如权利要求1至13中任一项所述的溅射靶-背衬板组装体,其特征在于,背衬板是以溅射靶的边角料或废料为原料制作的。
15.一种制造权利要求1至14中任一项所述的溅射靶-背衬板组装体的方法,其特征在于,通过将以成为磁性材料溅射靶的组成的方式配合的原料粉末与背衬板一起填充到模具中后进行热压,在所述磁性材料靶粉末烧结的同时与背衬板接合。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于吉坤日矿日石金属株式会社,未经吉坤日矿日石金属株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201180010057.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类





