[发明专利]植物生长改良剂、种子、以及改良植物生长的方法

权利要求书

1.一种植物生长改良剂，用以改良植物生长，其特征在于：

含有生长改良成分，所述生长改良成分用以改良植物周围的比硫酸根离子重且含有4个氧的含氧阴离子的浓度。

2.根据权利要求1所述的植物生长改良剂，其特征在于：

所述生长改良成分选自由提供含氧阴离子的含钼物、含钨物、含铬物、含硒物、及含碲物所组成的族群。

3.根据权利要求1所述的植物生长改良剂，其特征在于：

所述生长改良成分选自由提供含氧阴离子的钼化合物、钨化合物、铬化合物、硒化合物、及碲化合物所组成的族群。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的植物生长改良剂，其特征在于：

被用于在以下条件下栽培的所述植物，

该条件为：植物体的至少一部分至少暂时处于湛水状态。

5.根据权利要求4所述的植物生长改良剂，其特征在于：

所述植物是禾本科植物。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的植物生长改良剂，其特征在于：

用以改良所述植物的出苗。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的植物生长改良剂，其特征在于：

所述生长改良成分对水表现为微溶性。

8.根据权利要求3所述的植物生长改良剂，其特征在于：

所述生长改良成分是提供含氧阴离子的钼化合物或钨化合物。

9.一种种子，其特征在于：

在其表面或内部，被赋予有权利要求1至8中任一项所述的植物生长改良剂。

10.一种改良植物生长的方法，其特征在于：

包含栽培步骤：在生长改良成分的存在下使植物生长，其中所述生长改良成分用以改良植物周围的比硫酸根离子重且含有4个氧的含氧阴离子的浓度。

11.根据权利要求10所述的方法，其特征在于：

所述生长改良成分选自由提供含氧阴离子的含钼物、含钨物、含铬物、含硒物、及含碲物所组成的族群。

12.根据权利要求10所述的方法，其特征在于：

所述生长改良成分选自由提供含氧阴离子的钼化合物、钨化合物、铬化合物、硒化合物、及碲化合物所组成的族群。

13.根据权利要求10至12中任一项所述的方法，其特征在于：

将权利要求1至8中任一项所述的植物生长改良剂添加到供所述植物生长的溶液、土壤或它们的替代物中，以使所述生长改良成分得以存在。

14.根据权利要求13所述的方法，其特征在于：

使所述植物生长改良剂按照满足以下条件的方式存在于所述溶液、或所述土壤、或它们的替代物溶液中，

该条件为：比硫酸根离子重且含有4个氧的含氧阴离子的换算浓度落在0.01mM～10mM的范围内。

15.根据权利要求13所述的方法，其特征在于：

当所述溶液、所述土壤或它们的替代物的至少一部分中的、按照pH值7而标准化后的氧化还原电位至少暂时为0mV以下时，将所述植物生长改良剂添加到所述溶液、所述土壤或它们的替代物中。

16.根据权利要求10至12中任一项所述的方法，其特征在于：

还包含播种步骤：在所述栽培步骤前，将权利要求9所述的种子播种到供植物生长的溶液、土壤或它们的替代物中；

通过所述播种步骤，使所述生长改良成分得以存在。

17.根据权利要求10至15中任一项所述的方法，其特征在于：

在出苗期间或植物体的至少一部分暂处于湛水状态的期间的至少一方期间，进行所述栽培步骤。

18.一种改良植物生长的方法，其特征在于：

包括如下步骤：

在供植物生长的溶液、土壤或它们的替代物中，添加用以促使自所述溶液、所述土壤或它们的替代物中的含钼物、含钨物、含铬物、含硒物、或含碲物生成出或溶解出比硫酸根离子重且含有4个氧的含氧阴离子的添料。