[发明专利]紫外光处理方法和系统

权利要求书

1.一种方法，包括：提供处理液，所述处理液由于在所述处理液中存在至少多个微生物而具有第一微生物数；将衰减剂加入所述处理液；将所述处理液放置在包含UV光源的UV光处理系统中，以便所述衰减剂产生多个自由基；以及允许所述自由基与所述处理液中的微生物相互作用，以便将所述处理液的微生物数减少到第二微生物数。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述处理液是钻孔液、压裂液、丸剂、水性基液、盐水或泡沫液。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其中所述处理液包括原始液或回收液。

4.根据权利要求1、2或3所述的方法，其中所述第一微生物数在大约10³至大约10³⁰个细菌/mL的范围内。

5.根据任何上述权利要求所述的方法，其中所述第二微生物数是所述第一微生物数的log₅减少。

6.根据任何上述权利要求所述的方法，其中所述衰减剂是选自以下的有机衰减剂：苯乙酮、苯基·乙基酮、二苯酮、呫吨酮、噻吨酮、芴酮、苯甲醛、蒽醌、咔唑、硫靛染料、氧化膦、酮、苯偶姻醚、苯偶酰酮、α-二烷氧基苯乙酮、α-羟烷基苯酮、α-氨烷基苯酮、酰基氧化膦、二苯酮、苯并胺、噻吨酮、硫代胺、其任何组合物及其任何衍生物。

7.根据权利要求1至6中任意一项所述的方法，其中所述衰减剂是选自以下的无机衰减剂：纳米级二氧化钛、纳米级氧化铁、纳米级氧化钴、纳米级氧化铬、纳米级氧化镁、纳米级氧化铝、纳米级氧化铜、纳米级氧化锌、纳米级氧化锰、其任何组合物及其任何衍生物。

8.根据任何上述权利要求所述的方法，其中所述UV光处理系统包括在大约250nm至大约500nm波长范围内的UV光。

9.根据任何上述权利要求所述的方法，其中所述UV光处理系统包括UV灯泡，并且至少一部分所述衰减剂是放置在所述灯泡至少一部分上的无机衰减剂。

10.根据任何上述权利要求所述的方法，其中在所述处理液中的衰减剂的浓度达到所述处理液的按重量计约5%。

11.根据任何上述权利要求所述的方法，其中所述处理液包括选自以下的添加剂：胶凝剂、凝胶稳定剂、盐、pH-调节剂、缓蚀剂、分散剂、絮凝剂、酸、起泡剂、防沫剂、H₂S清除剂、润滑剂、微粒、桥键形成剂、增重剂、防垢剂、杀生物剂、减摩剂、其任何组合物及其任何衍生物。

12.根据权利要求11所述的方法，其中所述添加剂是化学杀生物剂，并且允许所述自由基与所述处理液中的微生物相互作用以便将所述处理液的微生物数减少到第二微生物数的步骤包括允许所述自由基和所述化学杀生物剂与所述处理液中的微生物相互作用以便将所述处理液的微生物数减少到第二微生物数。

13.根据任何上述权利要求所述的方法，进一步包括将具有所述第二微生物数的所述处理液放入贮藏容器用于以后再利用。

14.根据权利要求1至12中任意一项所述的方法，进一步包括将所述处理液放入地层中。