[实用新型]用于测量二氧化硫和氮氧化物的紫外分析仪有效
| 申请号: | 201120533032.X | 申请日: | 2011-12-15 |
| 公开(公告)号: | CN202421062U | 公开(公告)日: | 2012-09-05 |
| 发明(设计)人: | 石兆奇 | 申请(专利权)人: | 西安鼎研科技有限责任公司 |
| 主分类号: | G01N21/33 | 分类号: | G01N21/33;G01N21/03 |
| 代理公司: | 西安西交通盛知识产权代理有限责任公司 61217 | 代理人: | 陈翠兰 |
| 地址: | 710065 陕西省西安市*** | 国省代码: | 陕西;61 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 测量 二氧化硫 氧化物 紫外 分析 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种气体成份分析仪器,特别是一种用于测量二氧化硫和氮氧化物的紫外分析仪。
背景技术
随着国民经济各部门的飞速发展,对气体制造和应用技术的要求越来越高。为稳定工艺,确保产品气体质量,不仅需要对整个工艺过程的热力学参数,如温度,压力,流量等进行测量和控制,而且对工艺过程的每个关键部位需要进行成份量的测定与控制。在现阶段,对成份量的测定和控制已逐渐成为不可缺少的工作环节。不仅如此,成份量的测定数据,对工艺条件变化反映及时准确,直观性强这一特点,足以使它可以成为操作人员的得力助手和重要参谋。因此,近十多年来,在气体制造及应用中,以成份分析仪器作为必要的配套设备已逐渐成为全面质量管理的一个重要发展趋势。
近年来,大量开采煤矿、燃煤发电、对钢铁和有色金属的大量冶炼等都极大程度上对大气造成二氧化硫、氮氧化物等污染。目前,在监测大气的二氧化硫中,紫外吸收法以其灵敏度高、选择性好、测量范围大、实时监测等优点成为标准方法之一,特别适合于二氧化硫、氮氧化物浓度较低的大气(烟气)连续监测系统应用。
计算机、光纤传输技术的发展以及大规模集成电路阵列检测器等器件的出现,一种能够瞬间扫描全谱的分光光度计——紫外-可见分光光谱仪崭露头角,并在在线气体分析领域呈现较好的发展势头。
目前常用分析仪的基本结构一般为:包括光源,光源连接一单色仪,单色仪与探测器连接,并通过放大器将光源信号放大,并传递至记录仪(见图1所示)。该结构一般采用常规透射式吸收气室,吸收光程较短,测量数据不准确。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种用于测量二氧化硫和氮氧化物的紫外分析仪,该仪器设备和操作简单,费用少,分析速度快;灵敏度高;选择型好;精密度和准确度高;用途广泛。
本实用新型的目的是通过下述技术方案来实现的。
一种用于测量二氧化硫和氮氧化物的紫外分析仪,包括光源,与所述光源相连的气体室,所述气体室通过光纤连接有由光谱仪构成的光学组件,所述光谱仪包括相互连接的光阑、CCD线阵检测器和全息光栅。
本实用新型进一步的特征在于:
所述气体室为圆柱形结构,气体室的两圆柱端面分别设有光学视窗和透镜,光学视窗与光源相接,透镜与光纤相接。
所述气体室为球形结构,气体室的球形相对面上分别设有光学视窗和透镜,光学视窗与光源相接,透镜与光纤相接,气体室腔体中心设置有扩散板。
所述CCD线阵检测器线阵间距为200nm-400nm。
所述光源端头为氚灯。
本仪器测量原理是是紫外—可见分光计中的一种,其分析方法属于紫外吸收光谱法,工作原理基于朗伯--比耳定律。
紫外可见光发射器向接收器发射具有确定光谱的紫外光束;紫外光经过光路中的气体室时被被测物质所吸收,吸收后的紫外光信号传送到光谱仪中的分光系统(含光阑、全息光栅)进行分光后再投射到、CCD阵列检测器上,经CCD阵列转化为电信号进入电路部分进行信号放大、处理后得以显示。然后根据需要对检测结果进行传输、显示或打印。
本实用新型的有益效果是:
1)采用柱形气室,光程较长,保障测量精度;采用积分球作气体室,减小光散射,提高测量精度。
2)采用单光路结构,标定与测量采用同一光路的气体标定方法,使得标定简便,测量精度高。
3)运用光源基座固定法,使得光源易损件更换迅速,不需调整。
附图说明
图1为现有技术分析仪的基本结构。
图2为本实用新型结构示意图。
图3为本实用新型气体室为圆柱形结构示意图。
图4为本实用新型气体室为球形结构示意图。
图中:1、光源;2、气体室;3、光纤;4、光阑;5、CCD阵列检测器;6、全息光栅;7、光学视窗;8、透镜;9、扩散板。
具体实施方式
下面结合附图及实施例对本实用新型做进一步说明。
如图2所示,该用于测量二氧化硫和氮氧化物的紫外分析仪,包括光源1,与所述光源1相连的气体室2,其中:气体室2通过光纤3连接有由光谱仪构成的光学组件,光谱仪包括相互连接的光阑4、CCD线阵检测器5和全息光栅6。
本实施例中,CCD线阵检测器5线阵间距为200nm-400nm。所述光源1端头为氚灯。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安鼎研科技有限责任公司,未经西安鼎研科技有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201120533032.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





