[实用新型]一种除氟烘干装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种烘干装置，特别是涉及一种除氟烘干装置。

背景技术

随着激光技术的迅速发展，钽铌在激光全息照相、光存储、微声表面波技术方面的应用，对钽酸锂晶体和铌酸锂晶体的质量提出了更高要求；相应对钽酸锂、铌酸锂晶体的生产原料氧化钽及氧化铌产品中杂质含量有严格要求，产品中F^-离子由于在钽酸锂、铌酸锂晶体生长过程中会造成晶体微缺陷；降低产品中F^-离子含量是提高氧化钽及氧化铌产品质量的重要因素；本发明通过对氢氧化物烘干箱设备的改进，从而实现降低氧化钽、氧化铌产品中的F^-离子杂质含量。

采用液-液萃取分离法生产钽铌氧化物过程中，钽液和铌液分别以H2TaF7和H2NbF7(或H2NbOF5)形式存在，并含有一定量的游离HF和H2SO4，在用氨气(液氨)中和过程中，发生F列反应：

H2TaF7+7NH3+5H2O＝Ta(OH)5↓+7NH4F

H2NbF7+7NH3+5H20＝Nb(OH)5↓+7NH4F

H2NbOF5+5NH3+5H2O＝Nb(OH)5↓+5NH4F

HF+NH3＝NH4F

H2SO4+2NH3＝(NH4)SO4

在Ta(OH)5、Nb(OH)5形成非晶体沉淀时，表现为絮状沉淀物，极易吸附溶液中的杂质(F^-、SO4^2-)，造成氧化钽、氧化铌产品中的F离子很难洗涤，为此对氧化钽、氧化铌产品进行脱氟需要通过控制沉淀方式、物料洗涤、烘干与煅烧三道工序，才能保证产品中F^-离子含量满足用户要求；用氨气(液氨)中和沉淀钽、铌液生产氧化钽、氧化铌工艺流程，氧化钽或氧化铌产品脱氟的主要工序有：第一、控制沉淀，中和沉淀PH值控制、反应温度控制、通氨速度调整和停放时间的控制；第二、物料洗涤，将沉淀的水合氧化物加水调洗，调洗洗氟过程一般采用热稀氨水(65-90℃)洗涤，有时采用冷氨水洗涤；第三、烘干与煅烧，调洗得到的滤饼，在烘干箱120-250℃烘48小时，然后在800-1050℃条件下进行煅烧。上述三道工序中，物料的洗涤是降低产品F^-离子的关键工序。

缺点是：洗涤过程F^-离子是无限稀释的过程，洗涤次数往往需要8-10次，要消耗大量的加热稀氨水，而高纯氧化钽、氧化铌产品中对杂质F^-含量要求较低，生产过程中洗涤周期长，产品中杂质F^-含量波动较大。(见附表：高纯氧化钽、氧化铌产品国家标准)。

附表：高纯氧化钽、氧化铌产品国家标准GB/T10578 2003    (PPm)

导致原因：在Ta(OH)5、Nb(OH)5形成非晶体沉淀时，得到絮状沉淀物，极易吸附溶液中的杂质元素，F-离子主要是形成NH4F.XNH3络合物形式存在，絮状沉淀物中包裹的杂质元素NH4F.XNH3络合物不易进入水溶液，造成洗涤效率不高。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服现有技术的不足，提供一种除氟烘干装置，能有效降低氧化钽、氧化铌产品中的F^-离子，降低了生产成本，且节能环保。

为了达到上述目的，本实用新型采用的技术方案是：一种除氟烘干装置，包括通过输送管相连的蒸汽除氟烘干箱及淋洗回收装置，所述装置还包括蒸汽发生器，且蒸汽发生器与蒸汽除氟烘干箱底部的蒸汽入口相连，在蒸汽除氟烘干箱与淋洗回收装置之间设置有一真空抽风装置。

蒸汽发生器与蒸汽入口之间设置有一蒸汽净化装置，蒸汽净化装置的两侧各设置有一止回阀。

淋洗回收装置的外部设置有一循环水泵，淋洗回收装置的顶部设置有-废气出口。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：第一、在蒸汽除氟烘干箱的蒸汽入口处设置一蒸汽发生器，在确保烘干箱烘干温度条件下，间断地通入经过净化的蒸汽，保证待烘干物升华产生的气体及时排出，间断的保持物料的湿度；第二、在蒸汽发生器与蒸汽除氟烘干箱之间增设一蒸汽净化装置，能有效防止产品的污染，净化产品；第三、在蒸汽除氟烘干箱与淋洗回收装置之间设置一真空抽风装置，使得蒸汽除氟烘干箱处于负压状态，有助于待烘干物的升华，提高升华速度。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图；