[实用新型]一种反应溅射真空腔室系统有效
| 申请号： | 201120321954.4 | 申请日： | 2011-08-30 |
| 公开（公告）号： | CN202246839U | 公开（公告）日： | 2012-05-30 |
| 发明（设计）人： | 欧阳俊;王现洋 | 申请（专利权）人： | 欧阳俊 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 济南圣达知识产权代理有限公司 37221 | 代理人： | 王立晓 |
| 地址： | 250061 山东省济南市*** | 国省代码： | 山东;37 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 反应 溅射 空腔 系统 | ||
【权利要求书】：
1.一种反应溅射真空腔室系统，包括腔室体、靶材、基片，其特征是，在靶材下面的腔室体一侧靠近靶材的部分设有溅射气体喷射管作为第一气路，在基片周围高于基片的位置设有反应气体喷射管作为第二气路。
2.根据权利要求1所述的反应溅射真空腔室系统，其特征是，所述的反应气体喷射管的上方设有阻隔栅格板。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于欧阳俊，未经欧阳俊许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201120321954.4/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
