[实用新型]白光LED外延结构有效
| 申请号: | 201120314404.X | 申请日: | 2011-08-26 |
| 公开(公告)号: | CN202259402U | 公开(公告)日: | 2012-05-30 |
| 发明(设计)人: | 吉爱华;谢卫国 | 申请(专利权)人: | 环科电子有限公司 |
| 主分类号: | H01L33/30 | 分类号: | H01L33/30;H01L33/32 |
| 代理公司: | 温州新瓯专利事务所 33210 | 代理人: | 黄捷 |
| 地址: | 325013 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 白光 led 外延 结构 | ||
1.一种白光LED外延结构,包括从下至上依次设置的SiC衬底、N-GaN接触层、GaN外延层、InGaN/GaN 发光层,其特征为:在InGaN/GaN 发光层(5)之上还依次设有AlInGaP半导体复合物发光层(6)和P+GaN接触层(7)。
2.根据权利要求1所述的白光LED外延结构,其特征为:在SiC衬底(1)和N-GaN接触层(3)之间设有AIN过渡层(2),P+GaN接触层(7)之上设有ITO透明导电层(8)。
3.根据权利要求1或2所述的白光LED外延结构,其特征为:从GaN外延层(4)一直深入到SiC衬底(1)刻蚀有交替的沟槽结构(9),SiC衬底(1)表面还加工密布有纳米坑,InGaN/GaN 发光层(5)则部分悬空在沟槽结构(9)上方。
4.根据权利要求1或2所述的白光LED外延结构,其特征为:所述SiC衬底(1)的厚度为50~100um、N-GaN接触层(3)的厚度为200~800 nm、GaN 外延层(4)的厚度为500~2000nm、InGaN/GaN 发光层(5)的厚度为4000~9000nm、AlInGaP半导体复合物发光层(6)的厚度为1000~5000nm、P+GaN接触层(7)的厚度为100~500 nm。
5.根据权利要求2所述的白光LED外延结构,其特征为:所述AIN过渡层(2)的厚度为10~100 nm,ITO透明导电层(8)的厚度为1~10um。
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